eng
Competent opinion
Компетентное мнение
Ye.Gornev
National microelectronics: expectations and prospects As the anniversary of Institute – the leader of national micro- and nanoelectronics, approaches, the Institute management shares with the readers the latest developments, leading competencies and development prospects of the Institute, tells about the work of the Consortium of leading enterprises and organizations of the industry as well as describes its experience in training high-end professionals capable of solving problems that the national microelectronic industry face.
National microelectronics: expectations and prospects As the anniversary of Institute – the leader of national micro- and nanoelectronics, approaches, the Institute management shares with the readers the latest developments, leading competencies and development prospects of the Institute, tells about the work of the Consortium of leading enterprises and organizations of the industry as well as describes its experience in training high-end professionals capable of solving problems that the national microelectronic industry face.
Е.Горнев
Отечественная микроэлектроника: ожидания и перспективы В преддверии юбилея НИИМЭ, лидера отечественной микро- и наноэлектроники, руководство института делится с читателями новейшими разработками, ведущими компетенциями и перспективами развития института, работой Консорциума ведущих предприятий и организаций отрасли, опытом подготовки высококвалифицированных кадров для обеспечения решения задач, стоящих перед отечественной микроэлектронной промышленностью.
DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.392.398
Отечественная микроэлектроника: ожидания и перспективы В преддверии юбилея НИИМЭ, лидера отечественной микро- и наноэлектроники, руководство института делится с читателями новейшими разработками, ведущими компетенциями и перспективами развития института, работой Консорциума ведущих предприятий и организаций отрасли, опытом подготовки высококвалифицированных кадров для обеспечения решения задач, стоящих перед отечественной микроэлектронной промышленностью.
DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.392.398
P.Didenko, V.Uzdovskiy, Ye.Klyusov
Synthesis of German and Russian engineering schools Less than five years ago, DEAXO began working in the engineering services market, having managed to successfully implement several large-scale projects in the field of construction of factories and laboratories for the domestic microelectronic industry in a short time. In particular, DEAXO successfully created in Russia production facilities for INME RAS and the Russian division of NeoPhotonics Corporation. The company regularly participates in the SEMIEXPO Russia exhibition, and the current year was no exception. Pavel Didenko, contract management director (right in the photo), Evgeny Klyusov, sales manager (left in the photo), and Vladimir Uzdovskiy, engineer for gas supply, became our interlocutors at the DEAXO booth.
Synthesis of German and Russian engineering schools Less than five years ago, DEAXO began working in the engineering services market, having managed to successfully implement several large-scale projects in the field of construction of factories and laboratories for the domestic microelectronic industry in a short time. In particular, DEAXO successfully created in Russia production facilities for INME RAS and the Russian division of NeoPhotonics Corporation. The company regularly participates in the SEMIEXPO Russia exhibition, and the current year was no exception. Pavel Didenko, contract management director (right in the photo), Evgeny Klyusov, sales manager (left in the photo), and Vladimir Uzdovskiy, engineer for gas supply, became our interlocutors at the DEAXO booth.
П.Диденко, В.Уздовский, Е.Клюсов
Синтез немецкой и российской школ инжиниринга Компания DEAXO менее пяти лет назад появилась на рынке инжиниринговых услуг, сумев за небольшой срок успешно реализовать несколько масштабных проектов в области строительства предприятий и лабораторий для отечественной микроэлектронной отрасли. В активе DEAXO – успешное создание на территории России производств для ИНМЭ РАН и российской "дочки" корпорации NeoPhotonics. Компания регулярно участвует в выставке SEMIEXPO Russia, и текущий год не стал исключением. Нашими собеседниками на стенде DEAXO стали Павел Диденко, директор по контрактной работе (справа на фото), Евгений Клюсов, директор по продажам (слева на фото), и Владимир Уздовский, инженер по газоснабжению.
DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.400.402
Синтез немецкой и российской школ инжиниринга Компания DEAXO менее пяти лет назад появилась на рынке инжиниринговых услуг, сумев за небольшой срок успешно реализовать несколько масштабных проектов в области строительства предприятий и лабораторий для отечественной микроэлектронной отрасли. В активе DEAXO – успешное создание на территории России производств для ИНМЭ РАН и российской "дочки" корпорации NeoPhotonics. Компания регулярно участвует в выставке SEMIEXPO Russia, и текущий год не стал исключением. Нашими собеседниками на стенде DEAXO стали Павел Диденко, директор по контрактной работе (справа на фото), Евгений Клюсов, директор по продажам (слева на фото), и Владимир Уздовский, инженер по газоснабжению.
DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.400.402
J.Guillow
TBS presents the new partner, TRYMAX At the initiative of TBS*, on October 9, 2018, was held a seminar of a new foreign partner, Trymax** (the Netherlands), the recognized leader in equipment manufacturing for the semiconductor industry. The presenters of the company have told about products for plasma-chemical processing of plates, removing of photoresist by isotropic cleaning of surfaces by isotropic etching used in a wide spectra of crystal manufacturing, as well as MEMS, integrated circuits, UHF and other devices. Representatives of the company Paul Simpson and Jann Guillow spoke about Trymax products and solutions, the prospects for its entry into the Russian market in partnership with TBS and answered questions from guests, among whom were engineers of leading enterprises of the industry and business representatives. The interest was caused by the plasma treatment equipment NEO 200 for photoresist removing, etching, stripping plates, capable of processing substrates up to 200 mm. Compactness, low cost and a semi-automatic loading station allows it to be used in innovative centers of advanced development of nanoindustry as a powerful tool for the development of high-tech manufactures. At the end, employees of the TBS company outlined a plan for organizing events in 2019.
TBS presents the new partner, TRYMAX At the initiative of TBS*, on October 9, 2018, was held a seminar of a new foreign partner, Trymax** (the Netherlands), the recognized leader in equipment manufacturing for the semiconductor industry. The presenters of the company have told about products for plasma-chemical processing of plates, removing of photoresist by isotropic cleaning of surfaces by isotropic etching used in a wide spectra of crystal manufacturing, as well as MEMS, integrated circuits, UHF and other devices. Representatives of the company Paul Simpson and Jann Guillow spoke about Trymax products and solutions, the prospects for its entry into the Russian market in partnership with TBS and answered questions from guests, among whom were engineers of leading enterprises of the industry and business representatives. The interest was caused by the plasma treatment equipment NEO 200 for photoresist removing, etching, stripping plates, capable of processing substrates up to 200 mm. Compactness, low cost and a semi-automatic loading station allows it to be used in innovative centers of advanced development of nanoindustry as a powerful tool for the development of high-tech manufactures. At the end, employees of the TBS company outlined a plan for organizing events in 2019.
Я.Гийу
ТБС представляет нового партнера – компанию TRYMAX По инициативе компании ТБС* 9 октября 2018 года состоялся семинар нового зарубежного партнера компании – фирмы Trymax** (Нидерланды), признанного лидера по производству оборудования для полупроводниковой промышленности. Представители компании рассказали о продукции для плазмохимической обработки пластин, удаления фоторезиста, очистки поверхностей путем изотропного травления, используемого в широком спектре производства кристаллов, таких как МЭМС, ИМС, СВЧ и других полупроводниковых устройств. Поль Симпсон и Ян Гийу подробно рассказали о продуктах и решениях Trymax, перспективах ее выхода на российский рынок в партнерстве с компанией ТБС и ответили на многочисленные вопросы гостей семинара, среди которых были инженеры ведущих предприятий отрасли и представители бизнеса. Наибольший интерес вызвала установка плазменной обработки NEO 200 для удаления фоторезиста, травления, зачистки пластин и озоления, способная обрабатывать подложки диаметром до 200 мм. Компактность, низкая стоимость обслуживания и полуавтоматическая станция загрузки позволяют использовать ее в инновационных центрах опережающего развития отечественной полупроводниковой промышленности и наноиндустрии в качестве мощного инструмента развития высокотехнологичных производств. В конце семинара работники ТБС подвели итоги работы и наметили план мероприятий в 2019 году.
DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.404.406
ТБС представляет нового партнера – компанию TRYMAX По инициативе компании ТБС* 9 октября 2018 года состоялся семинар нового зарубежного партнера компании – фирмы Trymax** (Нидерланды), признанного лидера по производству оборудования для полупроводниковой промышленности. Представители компании рассказали о продукции для плазмохимической обработки пластин, удаления фоторезиста, очистки поверхностей путем изотропного травления, используемого в широком спектре производства кристаллов, таких как МЭМС, ИМС, СВЧ и других полупроводниковых устройств. Поль Симпсон и Ян Гийу подробно рассказали о продуктах и решениях Trymax, перспективах ее выхода на российский рынок в партнерстве с компанией ТБС и ответили на многочисленные вопросы гостей семинара, среди которых были инженеры ведущих предприятий отрасли и представители бизнеса. Наибольший интерес вызвала установка плазменной обработки NEO 200 для удаления фоторезиста, травления, зачистки пластин и озоления, способная обрабатывать подложки диаметром до 200 мм. Компактность, низкая стоимость обслуживания и полуавтоматическая станция загрузки позволяют использовать ее в инновационных центрах опережающего развития отечественной полупроводниковой промышленности и наноиндустрии в качестве мощного инструмента развития высокотехнологичных производств. В конце семинара работники ТБС подвели итоги работы и наметили план мероприятий в 2019 году.
DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.404.406
Nanotechnology
Нанотехнологии
A.Isaykin, A.Smolin, V.Kalyazin
Flexible printing compositions as basic element of future electronics The paper considers the problems of the development of conductive printing compositions for elastic substrates, a key element of an innovative flexible and stretchable electronics, as well as the basis for creating "smart clothes". It is noted that, from the point of view of the printing process, elastic materials can be divided into two groups: impermeable for printing composition and textile cloths having a porous, ink-permeable structure. To obtain conductive paths on impermeable and non-absorbent materials, a two-phase system of solvents and surfactants has been developed, which allows forming a surface conductive zone enriched with silver nanoparticles inside the printed layer. This provides an increase in conductivity without increasing the proportion of the conductive component and achieves good elasticity of the printed path due to the formation of a layer of almost pure elastomer. For woven textiles, a technology has been developed for applying conductive paths using a high-penetrating solvent and a two-stage drying mode, which provides deep impregnation of individual structural elements of the fabric without binding them and filling cavities. The obtained indicators of the surface resistance of conductive paths are comparable with the known analogues and surpass them in mechanical and operational properties. The developed printed compositions allow to create of EMG electrodes, RFID tags and antennas integrated directly into the clothing elements.
Flexible printing compositions as basic element of future electronics The paper considers the problems of the development of conductive printing compositions for elastic substrates, a key element of an innovative flexible and stretchable electronics, as well as the basis for creating "smart clothes". It is noted that, from the point of view of the printing process, elastic materials can be divided into two groups: impermeable for printing composition and textile cloths having a porous, ink-permeable structure. To obtain conductive paths on impermeable and non-absorbent materials, a two-phase system of solvents and surfactants has been developed, which allows forming a surface conductive zone enriched with silver nanoparticles inside the printed layer. This provides an increase in conductivity without increasing the proportion of the conductive component and achieves good elasticity of the printed path due to the formation of a layer of almost pure elastomer. For woven textiles, a technology has been developed for applying conductive paths using a high-penetrating solvent and a two-stage drying mode, which provides deep impregnation of individual structural elements of the fabric without binding them and filling cavities. The obtained indicators of the surface resistance of conductive paths are comparable with the known analogues and surpass them in mechanical and operational properties. The developed printed compositions allow to create of EMG electrodes, RFID tags and antennas integrated directly into the clothing elements.
А.Исайкин, А.Смолин, В.Калязин
Эластичные печатные составы как базовый элемент электроники будущего Рассмотрены проблемы разработки токопроводящих печатных составов для эластичных субстратов – ключевого элемента инновационной гибкой и растягиваемой электроники и основы создания "умной одежды". С точки зрения процесса печати эластичные материалы можно разделить на две группы: непроницаемые для печатного состава и текстильные полотна, имеющие пористую, проницаемую для краски структуру. Для проводящих дорожек на непроницаемых и невпитывающих материалах разработана двухфазная система растворителей и поверхностно-активного вещества, позволяющая создать внутри печатного слоя приповерхностную проводящую зону, обогащенную наночастицами серебра. При этом повышается проводимость без увеличения доли проводящего компонента и достигается хорошая эластичность печатной дорожки благодаря формированию слоя практически чистого эластомера. Для тканого текстиля разработана технология нанесения проводящих дорожек с использованием высокопроникающего растворителя и двухступенчатого режима сушки, что приводит к глубокой пропитке структурных элементов ткани без связывания и заполнения полостей. Полученные показатели поверхностного сопротивления дорожек сопоставимы с известными аналогами и превосходят их по механическим и эксплуатационным свойствам. Разработанные печатные составы позволяют создавать ЭМГ-электроды, RFID-метки и антенны, интегрированные непосредственно в элементы одежды.
УДК 655.3, ВАК 05.27.06, DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.418.424
Эластичные печатные составы как базовый элемент электроники будущего Рассмотрены проблемы разработки токопроводящих печатных составов для эластичных субстратов – ключевого элемента инновационной гибкой и растягиваемой электроники и основы создания "умной одежды". С точки зрения процесса печати эластичные материалы можно разделить на две группы: непроницаемые для печатного состава и текстильные полотна, имеющие пористую, проницаемую для краски структуру. Для проводящих дорожек на непроницаемых и невпитывающих материалах разработана двухфазная система растворителей и поверхностно-активного вещества, позволяющая создать внутри печатного слоя приповерхностную проводящую зону, обогащенную наночастицами серебра. При этом повышается проводимость без увеличения доли проводящего компонента и достигается хорошая эластичность печатной дорожки благодаря формированию слоя практически чистого эластомера. Для тканого текстиля разработана технология нанесения проводящих дорожек с использованием высокопроникающего растворителя и двухступенчатого режима сушки, что приводит к глубокой пропитке структурных элементов ткани без связывания и заполнения полостей. Полученные показатели поверхностного сопротивления дорожек сопоставимы с известными аналогами и превосходят их по механическим и эксплуатационным свойствам. Разработанные печатные составы позволяют создавать ЭМГ-электроды, RFID-метки и антенны, интегрированные непосредственно в элементы одежды.
УДК 655.3, ВАК 05.27.06, DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.418.424
Теги: elastomer flexible printing compositions stretchable electronics гибкие печатные составы растягиваемая электроника эластометр
G.Baranov, A.Italyantsev, N.Gerasimenko, A.Seletskiy
Physical features of formation of local submicron ion-implanted regions The continuous technology node scaling of Si microelectronics prompts to face with new difficulties in the formation of nanoscale ion-implanted regions. Starting from a certain size the formation of such regions goes under strong electrical and mechanical fields associated with the presence of a masking layer. In this paper, we perform numerical evaluations of size factors wherein the action of force fields is significant and require corrections in the design of Si microelectronics devices.
Physical features of formation of local submicron ion-implanted regions The continuous technology node scaling of Si microelectronics prompts to face with new difficulties in the formation of nanoscale ion-implanted regions. Starting from a certain size the formation of such regions goes under strong electrical and mechanical fields associated with the presence of a masking layer. In this paper, we perform numerical evaluations of size factors wherein the action of force fields is significant and require corrections in the design of Si microelectronics devices.
Г.Баранов, А.Итальянцев, Н.Герасименко, А.Селецкий
Физические особенности формирования локальных субмикронных ионно-имплантированных областей Стремление производителей к уменьшению проектных норм сталкивается с трудностями при создании наноразмерных ионно-легированных зон методами ионной имплантации. Создание зон происходит в условиях сильных электрических и механических полей, связанных с присутствием маскирующего слоя. Выполнены численные оценки размерных факторов окна имплантации с учетом действия силовых полей при конструктивно-технологическом проектировании приборов кремниевой микроэлектроники.
УДК 621.315.592.3; ВАК 05.27.01; DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.426.433
Физические особенности формирования локальных субмикронных ионно-имплантированных областей Стремление производителей к уменьшению проектных норм сталкивается с трудностями при создании наноразмерных ионно-легированных зон методами ионной имплантации. Создание зон происходит в условиях сильных электрических и механических полей, связанных с присутствием маскирующего слоя. Выполнены численные оценки размерных факторов окна имплантации с учетом действия силовых полей при конструктивно-технологическом проектировании приборов кремниевой микроэлектроники.
УДК 621.315.592.3; ВАК 05.27.01; DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.426.433
Теги: ion-doped region internal mechanical stresses ion implantation size factor внутренние механические напряжения ионная имплантация ионно-имплантируемая область размерный эффект
Test & Measurement
Контроль и измерения
E.Gladkikh, K.Kravchuk, I.Maslenikov, V.Reshetov, A.Useinov
Transparent diamond probe for nanoindentation The advantages of the nanoindentation, such as the speed of testing, the simplicity of sample preparation, the non-destructive principle of control, make it effective for studying a wide class of materials. Heterogeneous samples often require observation of their mechanical properties in local areas of the surface. In this regard, there is a need for precise positioning of the indenter using a transparent tip. An indenter made of transparent material, in addition to direct observation of the measurement area, allows radiation exposure of selected area of the sample. If there are no impurities and defects in the crystal from which the indenter is made, the radiation beam does not lose its intensity. The paper demonstrates the possibilities of observing the surface of a sample through an indenter, using liquid-crystal screens of electronic devices as an example. The image of individual pixels that passed through the indenter is resolved with great accuracy, and objects of tens of microns are distinguishable even without reaching the limit resolution of the microscope.
Transparent diamond probe for nanoindentation The advantages of the nanoindentation, such as the speed of testing, the simplicity of sample preparation, the non-destructive principle of control, make it effective for studying a wide class of materials. Heterogeneous samples often require observation of their mechanical properties in local areas of the surface. In this regard, there is a need for precise positioning of the indenter using a transparent tip. An indenter made of transparent material, in addition to direct observation of the measurement area, allows radiation exposure of selected area of the sample. If there are no impurities and defects in the crystal from which the indenter is made, the radiation beam does not lose its intensity. The paper demonstrates the possibilities of observing the surface of a sample through an indenter, using liquid-crystal screens of electronic devices as an example. The image of individual pixels that passed through the indenter is resolved with great accuracy, and objects of tens of microns are distinguishable even without reaching the limit resolution of the microscope.
Е.Гладких, К.Кравчук, И.Маслеников, В.Решетов, А.Усеинов
Использование прозрачного алмазного зонда в технике наноиндентирования Преимущества метода наноиндентирования, такие как скорость проведения испытаний, простота пробоподготовки и неразрушающий принцип контроля делают его весьма эффективным для исследования широкого класса материалов. Неоднородные образцы часто требуют наблюдения их механических свойств в локальных областях поверхности. В связи с этим возникает необходимость четкого позиционирования индентора. Это может быть решено путем использования прозрачного наконечника. Индентор из прозрачного материала, помимо непосредственного наблюдения области измерений, позволяет воздействовать излучением на выбранную область образца. При условии отсутствия примесей и дефектов в кристалле индентора пучок излучения не теряет своей интенсивности. В работе продемонстрированы возможности наблюдения поверхности образца через индентор на примере жидкокристаллических экранов электронных устройств. Изображение же отдельных пикселей, прошедшее через индентор, разрешено с большой точностью, причем объекты размером в десятки микрон различимы даже без достижения предельного разрешения микроскопа.
УДК 620.17, ВАК 05.11.13, DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.408.413
Использование прозрачного алмазного зонда в технике наноиндентирования Преимущества метода наноиндентирования, такие как скорость проведения испытаний, простота пробоподготовки и неразрушающий принцип контроля делают его весьма эффективным для исследования широкого класса материалов. Неоднородные образцы часто требуют наблюдения их механических свойств в локальных областях поверхности. В связи с этим возникает необходимость четкого позиционирования индентора. Это может быть решено путем использования прозрачного наконечника. Индентор из прозрачного материала, помимо непосредственного наблюдения области измерений, позволяет воздействовать излучением на выбранную область образца. При условии отсутствия примесей и дефектов в кристалле индентора пучок излучения не теряет своей интенсивности. В работе продемонстрированы возможности наблюдения поверхности образца через индентор на примере жидкокристаллических экранов электронных устройств. Изображение же отдельных пикселей, прошедшее через индентор, разрешено с большой точностью, причем объекты размером в десятки микрон различимы даже без достижения предельного разрешения микроскопа.
УДК 620.17, ВАК 05.11.13, DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.408.413
Теги: defects heterogeneous samples impurities indenter nanoindentation дефекты индентор наноидентирование неоднородные образцы примеси
I.Yaminsky, A.Akhmetova, G.Meshkov
Femtoscan online software and visualization of nano-objecs in high-resolution microscopy The developed FemtoScan Online software allows a variety of processing of experimental high-resolution microscopy data (probe, electron and optical microscopy) using original techniques.
Femtoscan online software and visualization of nano-objecs in high-resolution microscopy The developed FemtoScan Online software allows a variety of processing of experimental high-resolution microscopy data (probe, electron and optical microscopy) using original techniques.
И.Яминский, А.Ахметова, Г.Мешков
ПО "Фемтоскан онлайн" и визуализация нанообъектов в микроскопии высокого разрешения Программное обеспечение "ФемтоСкан Онлайн" осуществляет обработку экспериментальных данных микроскопии высокого разрешения (зондовой, электронной и оптической микроскопии) с помощью оригинальных методик.
УДК 004.932; ВАК 05.11.01; DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.414.416
ПО "Фемтоскан онлайн" и визуализация нанообъектов в микроскопии высокого разрешения Программное обеспечение "ФемтоСкан Онлайн" осуществляет обработку экспериментальных данных микроскопии высокого разрешения (зондовой, электронной и оптической микроскопии) с помощью оригинальных методик.
УДК 004.932; ВАК 05.11.01; DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.414.416
Теги: atomic force microscopy multifunctional femtoscan scanning microscope online-software scanning capillary microscopy атомно-силовая микроскопия сканирующая капиллярная микроскопия сканирующий микроскоп фемтоскан
Equipment for nanoindustry
Оборудование для наноиндустрии
A.Veselov
Picosun equipment for synthesis of ultrathin films by atomic layer deposition technology The history of development, basical principles, advantages and limitations of atomic layer deposition (ALD), as well as Picosun equipment for R&D and microelectronic industry are considered.
Picosun equipment for synthesis of ultrathin films by atomic layer deposition technology The history of development, basical principles, advantages and limitations of atomic layer deposition (ALD), as well as Picosun equipment for R&D and microelectronic industry are considered.
А.Веселов
Оборудование компании Picosun для синтеза сверхтонких пленок по технологии атомно-слоевого осаждения Рассматривается история разработки, принципы, преимущества и ограничения технологии атомно-слоевого осаждения (АСО), а также оборудование компании Picosun для исследовательских и промышленных задач.
DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.434.444
Оборудование компании Picosun для синтеза сверхтонких пленок по технологии атомно-слоевого осаждения Рассматривается история разработки, принципы, преимущества и ограничения технологии атомно-слоевого осаждения (АСО), а также оборудование компании Picosun для исследовательских и промышленных задач.
DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.434.444
Теги: atomic layer deposition flexible printed electronics uniform coatings атомно-слоевое осаждение гибкая печатная электроника однородные покрытия
A.Akhmetova, Yu.Belov, I.Yaminsky
Nano-lathe Improving the quality of manufacturing of individual parts ensures the growth of competitiveness of the products assembled from them. In such industries as aerospace, instrument-making, automotive, bearing industries, the requirements for equipment accuracy and reliability are constantly increasing. Nanometer accuracy is the goal to which mechanical engineering has been striving for the last few decades.
Nano-lathe Improving the quality of manufacturing of individual parts ensures the growth of competitiveness of the products assembled from them. In such industries as aerospace, instrument-making, automotive, bearing industries, the requirements for equipment accuracy and reliability are constantly increasing. Nanometer accuracy is the goal to which mechanical engineering has been striving for the last few decades.
А.Ахметова, Ю.Белов, И.Яминский
Нанотокарь Повышение качества изготовления отдельных деталей обеспечивает рост конкурентоспособности собранных из них изделий. В таких отраслях, как аэрокосмическая, приборостроительная, автомобильная, подшипниковая промышленности постоянно повышаются требования к точности и надежности оборудования. Нанометровая точность – цель, к которой стремится машиностроение несколько последних десятилетий.
DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.446.448
Нанотокарь Повышение качества изготовления отдельных деталей обеспечивает рост конкурентоспособности собранных из них изделий. В таких отраслях, как аэрокосмическая, приборостроительная, автомобильная, подшипниковая промышленности постоянно повышаются требования к точности и надежности оборудования. Нанометровая точность – цель, к которой стремится машиностроение несколько последних десятилетий.
DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.446.448
Issues of patenting
Вопросы патентования
D.Sokolov
Hiding know-how in patents for inventions Based on examples of patents for high-tech inventions, methods of protecting know-how are considered. Among them: indication of extended ranges of values of process parameters and device characteristics; hiding the technology of manufacturing of the signify elements; masking significant features by transferring them to the claims without focusing on their technical results in the description of the invention. The importance of patenting military technologies is noted.
Hiding know-how in patents for inventions Based on examples of patents for high-tech inventions, methods of protecting know-how are considered. Among them: indication of extended ranges of values of process parameters and device characteristics; hiding the technology of manufacturing of the signify elements; masking significant features by transferring them to the claims without focusing on their technical results in the description of the invention. The importance of patenting military technologies is noted.
Д.Соколов
Сокрытие ноу-хау в патентах на изобретения На примерах патентов на высокотехнологичные изобретения рассмотрены способы защиты ноу-хау: указание расширенных диапазонов значений важных параметров процессов и характеристик устройств; сокрытие технологии изготовления значимых элементов; маскировка значимых признаков путем их переноса в зависимые пункты формулы изобретения без акцента на технические результаты. Отмечена важность патентования военных технологий.
УДК 608.3, ВАК 12.00.03, DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.462.472
Сокрытие ноу-хау в патентах на изобретения На примерах патентов на высокотехнологичные изобретения рассмотрены способы защиты ноу-хау: указание расширенных диапазонов значений важных параметров процессов и характеристик устройств; сокрытие технологии изготовления значимых элементов; маскировка значимых признаков путем их переноса в зависимые пункты формулы изобретения без акцента на технические результаты. Отмечена важность патентования военных технологий.
УДК 608.3, ВАК 12.00.03, DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.462.472
Теги: depending claims hiding military technologies patent военные технологии зависимые пункты патент сокрытие
Стандартизация
V.Luchinin
Micro- and nanosystems industry: from import substitution to technological sovereignty The dominant factor determining the development of Russia in the conditions of global competition is the "technological breakthrough" as a strategic vector of positioning the state in the markets of military and civilian products in order to protect its vital interests and move to a new techno-economic paradigm. In the system of ensuring technological security of Russia in the existing and forecasted system of relations, including taking into account the priorities of the so-called "digital economy", the basic element of "soft power" is undoubtedly the intellectual potential of the nation, innovation and competitiveness of micro- and nanoindustry products. All of the above is integrated within the concept of "scientific and technological sovereignty". In the context of globalization, the reduction of sovereignty is inevitably. While intellectual isolation leads to stagnation, it is necessary to provide leadership in areas that determine global independence, parity and superiority.
Micro- and nanosystems industry: from import substitution to technological sovereignty The dominant factor determining the development of Russia in the conditions of global competition is the "technological breakthrough" as a strategic vector of positioning the state in the markets of military and civilian products in order to protect its vital interests and move to a new techno-economic paradigm. In the system of ensuring technological security of Russia in the existing and forecasted system of relations, including taking into account the priorities of the so-called "digital economy", the basic element of "soft power" is undoubtedly the intellectual potential of the nation, innovation and competitiveness of micro- and nanoindustry products. All of the above is integrated within the concept of "scientific and technological sovereignty". In the context of globalization, the reduction of sovereignty is inevitably. While intellectual isolation leads to stagnation, it is necessary to provide leadership in areas that determine global independence, parity and superiority.
В.Лучинин
Индустрия микро- и наносистем: от импортозамещения к технологическому суверенитету Доминирующим фактором, определяющим развитие России в условиях глобальной конкуренции, является "технологический прорыв" как стратегический вектор позиционирования государства на рынках военной и гражданской продукции с целью защиты его жизненно важных интересов и перехода к новому технологическому укладу. В системе обеспечения технологической безопасности России в существующей и прогнозируемой системе отношений, в том числе с учетом приоритетов так называемой цифровой экономики, базовым элементом "мягкой силы" является интеллектуальный потенциал нации, инновационность и конкурентоспособность продукции микро- и наноиндустрии. Все вышесказанное интегрируется в рамках понятия "научно-технологический суверенитет" (от франц. la souverainetй – независимость, самостоятельность). В условиях глобализации неизбежно сокращение суверенитета, а интеллектуальная изоляция ведет к стагнации, поэтому необходимо обеспечить лидерство по ключевым направлениям, определяющим глобальную независимость, паритет и превосходство.
УДК 621.3, ВАК 05.27.01, DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.450.461
Индустрия микро- и наносистем: от импортозамещения к технологическому суверенитету Доминирующим фактором, определяющим развитие России в условиях глобальной конкуренции, является "технологический прорыв" как стратегический вектор позиционирования государства на рынках военной и гражданской продукции с целью защиты его жизненно важных интересов и перехода к новому технологическому укладу. В системе обеспечения технологической безопасности России в существующей и прогнозируемой системе отношений, в том числе с учетом приоритетов так называемой цифровой экономики, базовым элементом "мягкой силы" является интеллектуальный потенциал нации, инновационность и конкурентоспособность продукции микро- и наноиндустрии. Все вышесказанное интегрируется в рамках понятия "научно-технологический суверенитет" (от франц. la souverainetй – независимость, самостоятельность). В условиях глобализации неизбежно сокращение суверенитета, а интеллектуальная изоляция ведет к стагнации, поэтому необходимо обеспечить лидерство по ключевым направлениям, определяющим глобальную независимость, паритет и превосходство.
УДК 621.3, ВАК 05.27.01, DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.450.461