Формирование инфраструктуры нанотехнологической сети включает создание научно-исследовательских и метрологических инструментов, а также технологического оборудования мирового уровня. В этой связи проведена разработка вакуумно-дугового источника низкотемпературного нанесения пленок, в том числе многослойных и многокомпонентных каталитических слоев для выращивания углеродных наноструктур. Источник создан в Институте металлофизики им. Г.В. Курдюмова Национальной академии наук Украины (Киев)1. На его основе в ОАО "НИИ точного машиностроения" (Москва)2 разрабатывается высокоэффективное вакуумно-технологическое оборудование для нанесения пленок в технологиях радиоэлектронной промышленности и приборах наноэлектроники, а также для формирования покрытий с уникальными физико-техническими характеристиками.

sitemap

Разработка: студия Green Art