НИИ точного машиностроения (НИИТМ) специализируется на разработке вакуумного оборудования для нанесения тонких пленок, плазмохимического травления, ионной имплантации приповерхностных слоев, стимулированного плазмой газофазного осаждения, а также физико-термического оборудования для осуществления процессов диффузии, окисления и отжига. Приоритетным направлением деятельности являются разработки оборудования для реализации новых технологических процессов, применяемых в наноэлектронике, микромеханике, при синтезе наноматериалов.

sitemap
Наш сайт использует cookies. Продолжая просмотр, вы даёте согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь с нашей Политикой Конфиденциальности
Согласен
Поиск:

Вход
Архив журнала
Журналы
Медиаданные
Редакционная политика
Реклама
Авторам
Контакты
TS_pub
technospheramag
technospheramag
ТЕХНОСФЕРА_РИЦ
© 2001-2025
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

Яндекс.Метрика
R&W
 
 
Вход:

Ваш e-mail:
Пароль:
 
Регистрация
Забыли пароль?
Книги по нанотехнологиям
Другие серии книг:
Мир материалов и технологий
Библиотека Института стратегий развития
Мир квантовых технологий
Мир математики
Мир физики и техники
Мир биологии и медицины
Мир химии
Мир наук о Земле
Мир электроники
Мир программирования
Мир связи
Мир строительства
Мир цифровой обработки
Мир экономики
Мир дизайна
Мир увлечений
Мир робототехники и мехатроники
Для кофейников
Мир радиоэлектроники
Библиотечка «КВАНТ»
Умный дом
Мировые бренды
Вне серий
Библиотека климатехника
Мир транспорта
Мир фотоники
Мир станкостроения
Мир метрологии
Мир энергетики
Книги, изданные при поддержке РФФИ
Выпуск #4/2008
В.Одиноков, Г.Павлов.
Вакуумная установка магнетронного нанесения металлических и диэлектрических нанопленок "МАГНА ТМ-200-01"
Просмотры: 2387
НИИ точного машиностроения (НИИТМ) специализируется на разработке вакуумного оборудования для нанесения тонких пленок, плазмохимического травления, ионной имплантации приповерхностных слоев, стимулированного плазмой газофазного осаждения, а также физико-термического оборудования для осуществления процессов диффузии, окисления и отжига. Приоритетным направлением деятельности являются разработки оборудования для реализации новых технологических процессов, применяемых в наноэлектронике, микромеханике, при синтезе наноматериалов.
Предприятие разрабатывает, изготавливает и поставляет:
экспериментальное и опытно-промышленное оборудование для научных исследований, отработки технологических и учебных процессов;
специальное технологическое оборудование (СТО) для микроэлектронного производства, включая серийное.
Одна из перспективных разработок НИИТМ – вакуумная установка магнетронного нанесения металлических и диэлектрических нанопленок "МАГНА ТМ-200-01" с вакуумным транспортно-загрузочным базовым модулем и магнетронными распылительными устройствами.
Вакуумный транспортно-загрузочный базовый модуль
Предназначен для реализации различных технологических процессов микроэлектроники и нанотехнологий на основе разработанных по заданию Заказчика реакторов.
Модуль включает:
прогреваемую (охлаждаемую) загрузочную камеру;
шлюзовую камеру загрузки-выгрузки подложки или подложкодержателя с вакуумным затвором;
турбомолекулярный высоковакуумный насос;
безмасляный форвакуумный насос рабочей магистрали и шлюзовой камеры;

регулируемые дроссельные заслонки высоковакуумной и форвакуумной магистралей;
элементы гидравлической и пневматической систем охлаждения;
элементы охлаждения и термостатирования;
вакуумные датчики и клапаны;
электрокоммутационная панель.
Модуль обеспечивает:
загрузку-выгрузку через шлюз одной подложки или одного подложкодержателя диаметром до 200 мм или размером до 200х200 мм;
откачку загрузочной камеры до 1•10-5 Па;
поддержание заданного давления в загрузочной камере 0,01–1,0 Па;
откачку камеры шлюзования до 5•10-1 Па;
измерение предельного разрежения в камере загрузки, а также остаточного давления в камере шлюзования;
контролируемое натекание газа в загрузочную камеру и камеру шлюзования;
защиту датчиков давления от воздействия агрессивных сред.
Вакуумная установка магнетронного нанесения металлических и диэлектрических нанопленок "МАГНА ТМ-200-01"
Установка создана на базе вакуумного транспортно-загрузочного модуля. Для нанесения пленок в ней используется рабочая камера (реактор) с магнетронным распылительным устройством (МРУ).
Возможные варианты МРУ:
планарного типа с источником питания на постоянном токе и ВЧ питания с дисковой мишенью 280 мм;
мультикатодного типа с тремя мишенями диаметром 100 мм для нанесения многослойных или многокомпонентных пленок заданного состава.
Установка имеет микропроцессорную систему управления и встраивается в чистую комнату.
Установка обеспечивает нанесение металлических и диэлектрических пленок, формирование каталитических слоев наноструктур (Fe, Ni, Co и др.) на подложках диаметром до 200 мм или размером до 200х200 мм.
Скорость нанесения: металлических пленок – до 0,5 мкм/мин; диэлектрических пленок – до 0,2 мкм/мин. Неравномерность пленок по толщине – ±3 %.
Планарные магнетронные распылительные устройства
Назначение:
Планарные МРУ различной мощности предназначены для нанесения пленок на подложки методом магнетронного распыления дисковой мишени из вращающейся разрядной зоны в реакторах экспериментальных и промышленных вакуумных установок индивидуальной обработки пластин в микро- и нанотехнологиях.
Особенности:
катод с дисковой мишенью;
комбинированный магнитный блок с электроприводом вращения центральной секции;
кольцевой анод с развитой внутренней поверхностью;
прогрев и охлаждение водой катода и анода;
наружный экран, обеспечивающий безопасную работу устройства в ВЧ-режиме;
нанесение пленок проводящих материалов в режиме постоянного тока и пленок диэлектрических материалов в ВЧ-режиме.
Технические характеристики
Максимальная мощность разряда 6 кВт 12 кВт
Неравномерность пленок по толщине, %:
диаметр пластин 100–125 мм ±(2−3) –
диаметр пластин 150–200 мм – ±(3-5)
Диаметр мишени, мм 210 280
Диаметр условного прохода
присоединительного фланца, мм 250 320
Диаметр МРУ, мм 320 400
Масса, не более, кг 20 42
Мультикатодное магнетронное распылительное устройство
Назначение:
Мультикатодное МРУ предназначено для нанесения пленок на подложки методом магнетронного распыления вращающихся мишеней в реакторах экспериментальных и промышленных вакуумных установок индивидуальной обработки пластин в микро- и нанотехнологиях.
Особенности:
три автономных магнетронных узла с дисковыми мишенями малого диаметра;
вращение магнетронных узлов относительно центральной оси;
водяное охлаждение катодов магнетронных узлов в процессе вращения;
подключение катодов к индивидуальным источникам питания с помощью коллекторного узла;
фильтр защиты источников питания для надежного функционирования устройства при подаче ВЧ-напряжения смещения на
подпожкодержатель;
нанесение пленок на пластины со ступенчатым рельефом;
нанесение многокомпонентных пленок при регулировании мощности магнетронных узлов;
нанесение пленок проводящих материалов, включая тугоплавкие и драгоценные металлы с высокотемпературной
сверхпроводимостью и пленок;
нанесение диэлектрических пленок реактивным осаждением;
эффективное использование распыленного материала благодаря наклонному расположению мишеней.
Технические характеристики
Число магнетронных узлов 3
Диаметр мишеней, мм 100
Максимальная мощность разряда на мишени, кВт:
при контактном креплении 3
при креплении пайкой 4
Суммарная мощность, кВт 9-12
Неравномерность наносимых пленок по толщине, %:
диаметр пластин 100–125 мм ±2
диаметре пластин 150–200 мм ±3-5
ДУ присоединительного фланца, мм 320
Габариты, мм 400 х 500
Масса, не более, кг 35
НИИТМ заинтересован в партнерах для совместных разработок новых технологий, реакторов и конкурентоспособных технологических установок.

ЛИТЕРАТУРА
1 Новейшие разработки НИИ точного машиностроения. – Наноиндустрия, 2008, № 2, с. 37.
2. Одиноков В.В. , Павлов Г.Я. Специализированное оборудование для исследования и реализации новых технологий. – Наноиндустрия, 2008, № 3, с. 14-18.
 
 Отзывы читателей
Разработка: студия Green Art