eng
Выпуск #4/2008
В.Одиноков, Г.Павлов.
Вакуумная установка магнетронного нанесения металлических и диэлектрических нанопленок "МАГНА ТМ-200-01"
Вакуумная установка магнетронного нанесения металлических и диэлектрических нанопленок "МАГНА ТМ-200-01"
Просмотры: 2332
НИИ точного машиностроения (НИИТМ) специализируется на разработке вакуумного оборудования для нанесения тонких пленок, плазмохимического травления, ионной имплантации приповерхностных слоев, стимулированного плазмой газофазного осаждения, а также физико-термического оборудования для осуществления процессов диффузии, окисления и отжига. Приоритетным направлением деятельности являются разработки оборудования для реализации новых технологических процессов, применяемых в наноэлектронике, микромеханике, при синтезе наноматериалов.
Предприятие разрабатывает, изготавливает и поставляет:
экспериментальное и опытно-промышленное оборудование для научных исследований, отработки технологических и учебных процессов;
специальное технологическое оборудование (СТО) для микроэлектронного производства, включая серийное.
Одна из перспективных разработок НИИТМ – вакуумная установка магнетронного нанесения металлических и диэлектрических нанопленок "МАГНА ТМ-200-01" с вакуумным транспортно-загрузочным базовым модулем и магнетронными распылительными устройствами.
Вакуумный транспортно-загрузочный базовый модуль
Предназначен для реализации различных технологических процессов микроэлектроники и нанотехнологий на основе разработанных по заданию Заказчика реакторов.
Модуль включает:
прогреваемую (охлаждаемую) загрузочную камеру;
шлюзовую камеру загрузки-выгрузки подложки или подложкодержателя с вакуумным затвором;
турбомолекулярный высоковакуумный насос;
безмасляный форвакуумный насос рабочей магистрали и шлюзовой камеры;
регулируемые дроссельные заслонки высоковакуумной и форвакуумной магистралей;
элементы гидравлической и пневматической систем охлаждения;
элементы охлаждения и термостатирования;
вакуумные датчики и клапаны;
электрокоммутационная панель.
Модуль обеспечивает:
загрузку-выгрузку через шлюз одной подложки или одного подложкодержателя диаметром до 200 мм или размером до 200х200 мм;
откачку загрузочной камеры до 1•10-5 Па;
поддержание заданного давления в загрузочной камере 0,01–1,0 Па;
откачку камеры шлюзования до 5•10-1 Па;
измерение предельного разрежения в камере загрузки, а также остаточного давления в камере шлюзования;
контролируемое натекание газа в загрузочную камеру и камеру шлюзования;
защиту датчиков давления от воздействия агрессивных сред.
Вакуумная установка магнетронного нанесения металлических и диэлектрических нанопленок "МАГНА ТМ-200-01"
Установка создана на базе вакуумного транспортно-загрузочного модуля. Для нанесения пленок в ней используется рабочая камера (реактор) с магнетронным распылительным устройством (МРУ).
Возможные варианты МРУ:
планарного типа с источником питания на постоянном токе и ВЧ питания с дисковой мишенью 280 мм;
мультикатодного типа с тремя мишенями диаметром 100 мм для нанесения многослойных или многокомпонентных пленок заданного состава.
Установка имеет микропроцессорную систему управления и встраивается в чистую комнату.
Установка обеспечивает нанесение металлических и диэлектрических пленок, формирование каталитических слоев наноструктур (Fe, Ni, Co и др.) на подложках диаметром до 200 мм или размером до 200х200 мм.
Скорость нанесения: металлических пленок – до 0,5 мкм/мин; диэлектрических пленок – до 0,2 мкм/мин. Неравномерность пленок по толщине – ±3 %.
Планарные магнетронные распылительные устройства
Назначение:
Планарные МРУ различной мощности предназначены для нанесения пленок на подложки методом магнетронного распыления дисковой мишени из вращающейся разрядной зоны в реакторах экспериментальных и промышленных вакуумных установок индивидуальной обработки пластин в микро- и нанотехнологиях.
Особенности:
катод с дисковой мишенью;
комбинированный магнитный блок с электроприводом вращения центральной секции;
кольцевой анод с развитой внутренней поверхностью;
прогрев и охлаждение водой катода и анода;
наружный экран, обеспечивающий безопасную работу устройства в ВЧ-режиме;
нанесение пленок проводящих материалов в режиме постоянного тока и пленок диэлектрических материалов в ВЧ-режиме.
Технические характеристики
Максимальная мощность разряда 6 кВт 12 кВт
Неравномерность пленок по толщине, %:
диаметр пластин 100–125 мм ±(2−3) –
диаметр пластин 150–200 мм – ±(3-5)
Диаметр мишени, мм 210 280
Диаметр условного прохода
присоединительного фланца, мм 250 320
Диаметр МРУ, мм 320 400
Масса, не более, кг 20 42
Мультикатодное магнетронное распылительное устройство
Назначение:
Мультикатодное МРУ предназначено для нанесения пленок на подложки методом магнетронного распыления вращающихся мишеней в реакторах экспериментальных и промышленных вакуумных установок индивидуальной обработки пластин в микро- и нанотехнологиях.
Особенности:
три автономных магнетронных узла с дисковыми мишенями малого диаметра;
вращение магнетронных узлов относительно центральной оси;
водяное охлаждение катодов магнетронных узлов в процессе вращения;
подключение катодов к индивидуальным источникам питания с помощью коллекторного узла;
фильтр защиты источников питания для надежного функционирования устройства при подаче ВЧ-напряжения смещения на
подпожкодержатель;
нанесение пленок на пластины со ступенчатым рельефом;
нанесение многокомпонентных пленок при регулировании мощности магнетронных узлов;
нанесение пленок проводящих материалов, включая тугоплавкие и драгоценные металлы с высокотемпературной
сверхпроводимостью и пленок;
нанесение диэлектрических пленок реактивным осаждением;
эффективное использование распыленного материала благодаря наклонному расположению мишеней.
Технические характеристики
Число магнетронных узлов 3
Диаметр мишеней, мм 100
Максимальная мощность разряда на мишени, кВт:
при контактном креплении 3
при креплении пайкой 4
Суммарная мощность, кВт 9-12
Неравномерность наносимых пленок по толщине, %:
диаметр пластин 100–125 мм ±2
диаметре пластин 150–200 мм ±3-5
ДУ присоединительного фланца, мм 320
Габариты, мм 400 х 500
Масса, не более, кг 35
НИИТМ заинтересован в партнерах для совместных разработок новых технологий, реакторов и конкурентоспособных технологических установок.
ЛИТЕРАТУРА
1 Новейшие разработки НИИ точного машиностроения. – Наноиндустрия, 2008, № 2, с. 37.
2. Одиноков В.В. , Павлов Г.Я. Специализированное оборудование для исследования и реализации новых технологий. – Наноиндустрия, 2008, № 3, с. 14-18.
экспериментальное и опытно-промышленное оборудование для научных исследований, отработки технологических и учебных процессов;
специальное технологическое оборудование (СТО) для микроэлектронного производства, включая серийное.
Одна из перспективных разработок НИИТМ – вакуумная установка магнетронного нанесения металлических и диэлектрических нанопленок "МАГНА ТМ-200-01" с вакуумным транспортно-загрузочным базовым модулем и магнетронными распылительными устройствами.
Вакуумный транспортно-загрузочный базовый модуль
Предназначен для реализации различных технологических процессов микроэлектроники и нанотехнологий на основе разработанных по заданию Заказчика реакторов.
Модуль включает:
прогреваемую (охлаждаемую) загрузочную камеру;
шлюзовую камеру загрузки-выгрузки подложки или подложкодержателя с вакуумным затвором;
турбомолекулярный высоковакуумный насос;
безмасляный форвакуумный насос рабочей магистрали и шлюзовой камеры;
регулируемые дроссельные заслонки высоковакуумной и форвакуумной магистралей;
элементы гидравлической и пневматической систем охлаждения;
элементы охлаждения и термостатирования;
вакуумные датчики и клапаны;
электрокоммутационная панель.
Модуль обеспечивает:
загрузку-выгрузку через шлюз одной подложки или одного подложкодержателя диаметром до 200 мм или размером до 200х200 мм;
откачку загрузочной камеры до 1•10-5 Па;
поддержание заданного давления в загрузочной камере 0,01–1,0 Па;
откачку камеры шлюзования до 5•10-1 Па;
измерение предельного разрежения в камере загрузки, а также остаточного давления в камере шлюзования;
контролируемое натекание газа в загрузочную камеру и камеру шлюзования;
защиту датчиков давления от воздействия агрессивных сред.
Вакуумная установка магнетронного нанесения металлических и диэлектрических нанопленок "МАГНА ТМ-200-01"
Установка создана на базе вакуумного транспортно-загрузочного модуля. Для нанесения пленок в ней используется рабочая камера (реактор) с магнетронным распылительным устройством (МРУ).
Возможные варианты МРУ:
планарного типа с источником питания на постоянном токе и ВЧ питания с дисковой мишенью 280 мм;
мультикатодного типа с тремя мишенями диаметром 100 мм для нанесения многослойных или многокомпонентных пленок заданного состава.
Установка имеет микропроцессорную систему управления и встраивается в чистую комнату.
Установка обеспечивает нанесение металлических и диэлектрических пленок, формирование каталитических слоев наноструктур (Fe, Ni, Co и др.) на подложках диаметром до 200 мм или размером до 200х200 мм.
Скорость нанесения: металлических пленок – до 0,5 мкм/мин; диэлектрических пленок – до 0,2 мкм/мин. Неравномерность пленок по толщине – ±3 %.
Планарные магнетронные распылительные устройства
Назначение:
Планарные МРУ различной мощности предназначены для нанесения пленок на подложки методом магнетронного распыления дисковой мишени из вращающейся разрядной зоны в реакторах экспериментальных и промышленных вакуумных установок индивидуальной обработки пластин в микро- и нанотехнологиях.
Особенности:
катод с дисковой мишенью;
комбинированный магнитный блок с электроприводом вращения центральной секции;
кольцевой анод с развитой внутренней поверхностью;
прогрев и охлаждение водой катода и анода;
наружный экран, обеспечивающий безопасную работу устройства в ВЧ-режиме;
нанесение пленок проводящих материалов в режиме постоянного тока и пленок диэлектрических материалов в ВЧ-режиме.
Технические характеристики
Максимальная мощность разряда 6 кВт 12 кВт
Неравномерность пленок по толщине, %:
диаметр пластин 100–125 мм ±(2−3) –
диаметр пластин 150–200 мм – ±(3-5)
Диаметр мишени, мм 210 280
Диаметр условного прохода
присоединительного фланца, мм 250 320
Диаметр МРУ, мм 320 400
Масса, не более, кг 20 42
Мультикатодное магнетронное распылительное устройство
Назначение:
Мультикатодное МРУ предназначено для нанесения пленок на подложки методом магнетронного распыления вращающихся мишеней в реакторах экспериментальных и промышленных вакуумных установок индивидуальной обработки пластин в микро- и нанотехнологиях.
Особенности:
три автономных магнетронных узла с дисковыми мишенями малого диаметра;
вращение магнетронных узлов относительно центральной оси;
водяное охлаждение катодов магнетронных узлов в процессе вращения;
подключение катодов к индивидуальным источникам питания с помощью коллекторного узла;
фильтр защиты источников питания для надежного функционирования устройства при подаче ВЧ-напряжения смещения на
подпожкодержатель;
нанесение пленок на пластины со ступенчатым рельефом;
нанесение многокомпонентных пленок при регулировании мощности магнетронных узлов;
нанесение пленок проводящих материалов, включая тугоплавкие и драгоценные металлы с высокотемпературной
сверхпроводимостью и пленок;
нанесение диэлектрических пленок реактивным осаждением;
эффективное использование распыленного материала благодаря наклонному расположению мишеней.
Технические характеристики
Число магнетронных узлов 3
Диаметр мишеней, мм 100
Максимальная мощность разряда на мишени, кВт:
при контактном креплении 3
при креплении пайкой 4
Суммарная мощность, кВт 9-12
Неравномерность наносимых пленок по толщине, %:
диаметр пластин 100–125 мм ±2
диаметре пластин 150–200 мм ±3-5
ДУ присоединительного фланца, мм 320
Габариты, мм 400 х 500
Масса, не более, кг 35
НИИТМ заинтересован в партнерах для совместных разработок новых технологий, реакторов и конкурентоспособных технологических установок.
ЛИТЕРАТУРА
1 Новейшие разработки НИИ точного машиностроения. – Наноиндустрия, 2008, № 2, с. 37.
2. Одиноков В.В. , Павлов Г.Я. Специализированное оборудование для исследования и реализации новых технологий. – Наноиндустрия, 2008, № 3, с. 14-18.
Отзывы читателей
