eng
Развитие нанотехнологий стимулирует интерес к созданию тонких пленок, используемых в микроэлектронике, нанофотонике, оптике и оптоэлектронике, космической и других отраслях для создания упрочняющих, светоотражающих, диэлектрических и проводящих покрытий. Наиболее востребованной технологией в этом направлении является магнетронное осаждение т+покрытий в вакууме. Основное его преимущество – высокая скорость нанесения и точность воспроизведения состава распыляемого материала.
Теги: accuracy of sputtering material magnetron sputtering deposition thin-films воспроизведение магнетронное осаждение тонкопленочные покрытия
Метод применяется для формирования тонких пленок металлов (Ag, Au, Al, Cu и др.), полупроводников (Si, Ge, SiC, GaAs и др.), диэлектриков (Al2O3, SiO2 и др.). Ключевые преимущества любого оборудования в таких быстроразвивающихся отраслях, как нанотехнологии, – гибкость конфигурации, возможность его модернизации в зависимости от задач пользователя. Именно поэтому в ЗАО "НТО" специально разработана универсальная установка для проведения осаждения покрытий в вакууме методами магнетронного и электронно-лучевого распыления STE MS105 (рис.1, 2). Благодаря гибкой конфигурации и специальной конструкции нагревателя она позволяет проводить напыление пленок металлов, магнитных материалов и многокомпонентных оксидов при температуре на подложке до 900°С, используя магнетронные мишени. В зависимости от решаемых задач система предлагается в обычном или сверхвысоковакуумном исполнении.
Применение STE MS105: установки вакуумного осаждения с различными источниками для исследовательских процессов; возможность использования электронно-лучевого и/или терморезистивного испарителей, источника ионной очистки; обеспечение одновременного магнетронного осаждения многокомпонентных материалов из 2–3 магнетронов с диаметром мишеней 76,2 мм, сфокусированных на держатель образца в центре камеры. Возможно переконфигурирование установки для использования до 7 магнетронов с диаметром мишеней 50,8 мм; переконфигурирование установки для последовательного напыления материалов с использованием держателя-карусели (см.таблицу).
Конфигурация установки оптимальна для осаждения новых материалов и сплавов.
Особенности конструкции реактора: использование до трех магнетронных испарителей с диаметром мишеней 76,2 мм; мощность источника по выбору 2 кВт (DC) либо 0,75 кВт (RF); возможность использования Ar, H2, O2, N2; магнетронные источники располагаются на гибком кронштейне и могут фокусироваться в одну точку (конфокальная геометрия) для обеспечения режима соосаждения; возможность монтажа индивидуальных заслонок для магнетронных испарителей. Управление установкой оператором может осуществляться в ручном режиме, а также с выносного интерфейсного модуля на базе ПК при полной автоматизации техпроцесса.
Установка STE MS105 – базовая в линейке магнетронного напыления SemiTEq. Компания может предложить не только многофункциональные исследовательские системы, но и оборудование для промышленного применения – модель STE MS116 (рис.3), обеспечивающую групповую обработку пластин диаметром до 150 мм, а также пластин размером 60×48 мм. Конструкция позволяет использовать STE MS116 в качестве многофункциональной установки вакуумного осаждения с различными источниками и проводить напыление пленок металлов, магнитных материалов и многокомпонентных оксидов при температуре на подложке до 500oС.
В базовой конфигурации предусмотрены:
5 портов для установки источников материалов и/или ионов и специальный порт под газовый душ;
держатель карусельного типа с возможностью установки образцов различной формы;
4 магнетронных источника с диаметром мишени до 150 мм с индивидуальными заслонками;
один DC-источник на 5 кВт с возможностью работы в импульсном режиме, один RF источник питания на 13,56 МГц c автоматическим устройством поддержания напряжения 2,5 кВт, комплект электроники с устройством перекоммутации источников питания;
ионный источник с энергией ионов 20–300 эВ для ионной очистки подложек перед напылением с системой защитных экранов;
три газовые линии с автоматическими регуляторами расхода газа, включая одну линию с байпасом в коррозионно-стойком исполнении.
Технологи компании вместе с поставкой оборудования проводят тренинг специалистов заказчика по работе с оборудованием. Для быстрого технологического запуска предлагается также расширенный тренинг персонала и технологическая поддержка, включающая постановку базовых технологических процессов.
ЗАО "НТО"
194156, г. С.-Петербург, пр. Энгельса, 27 корп.5, лит. А.
Тел.: +7 (812) 633 05 96; факс: +7 (812) 633 05 97.
sales@semiteq.ru; www.semiteq.ru
ЗАО "Предприятие Остек"
официальный дистрибьютор линейки планарного
оборудования SemiTEq в РФ и СНГ
Офис в Москве:
121467, Россия, Москва, ул. Молдавская, д. 5, стр. 2.
Тел.: (495) 788 44 44, факс: (495) 788 44 42.
micro@ostec-group.ru
Применение STE MS105: установки вакуумного осаждения с различными источниками для исследовательских процессов; возможность использования электронно-лучевого и/или терморезистивного испарителей, источника ионной очистки; обеспечение одновременного магнетронного осаждения многокомпонентных материалов из 2–3 магнетронов с диаметром мишеней 76,2 мм, сфокусированных на держатель образца в центре камеры. Возможно переконфигурирование установки для использования до 7 магнетронов с диаметром мишеней 50,8 мм; переконфигурирование установки для последовательного напыления материалов с использованием держателя-карусели (см.таблицу).
Конфигурация установки оптимальна для осаждения новых материалов и сплавов.
Особенности конструкции реактора: использование до трех магнетронных испарителей с диаметром мишеней 76,2 мм; мощность источника по выбору 2 кВт (DC) либо 0,75 кВт (RF); возможность использования Ar, H2, O2, N2; магнетронные источники располагаются на гибком кронштейне и могут фокусироваться в одну точку (конфокальная геометрия) для обеспечения режима соосаждения; возможность монтажа индивидуальных заслонок для магнетронных испарителей. Управление установкой оператором может осуществляться в ручном режиме, а также с выносного интерфейсного модуля на базе ПК при полной автоматизации техпроцесса.
Установка STE MS105 – базовая в линейке магнетронного напыления SemiTEq. Компания может предложить не только многофункциональные исследовательские системы, но и оборудование для промышленного применения – модель STE MS116 (рис.3), обеспечивающую групповую обработку пластин диаметром до 150 мм, а также пластин размером 60×48 мм. Конструкция позволяет использовать STE MS116 в качестве многофункциональной установки вакуумного осаждения с различными источниками и проводить напыление пленок металлов, магнитных материалов и многокомпонентных оксидов при температуре на подложке до 500oС.
В базовой конфигурации предусмотрены:
5 портов для установки источников материалов и/или ионов и специальный порт под газовый душ;
держатель карусельного типа с возможностью установки образцов различной формы;
4 магнетронных источника с диаметром мишени до 150 мм с индивидуальными заслонками;
один DC-источник на 5 кВт с возможностью работы в импульсном режиме, один RF источник питания на 13,56 МГц c автоматическим устройством поддержания напряжения 2,5 кВт, комплект электроники с устройством перекоммутации источников питания;
ионный источник с энергией ионов 20–300 эВ для ионной очистки подложек перед напылением с системой защитных экранов;
три газовые линии с автоматическими регуляторами расхода газа, включая одну линию с байпасом в коррозионно-стойком исполнении.
Технологи компании вместе с поставкой оборудования проводят тренинг специалистов заказчика по работе с оборудованием. Для быстрого технологического запуска предлагается также расширенный тренинг персонала и технологическая поддержка, включающая постановку базовых технологических процессов.
ЗАО "НТО"
194156, г. С.-Петербург, пр. Энгельса, 27 корп.5, лит. А.
Тел.: +7 (812) 633 05 96; факс: +7 (812) 633 05 97.
sales@semiteq.ru; www.semiteq.ru
ЗАО "Предприятие Остек"
официальный дистрибьютор линейки планарного
оборудования SemiTEq в РФ и СНГ
Офис в Москве:
121467, Россия, Москва, ул. Молдавская, д. 5, стр. 2.
Тел.: (495) 788 44 44, факс: (495) 788 44 42.
micro@ostec-group.ru
Отзывы читателей
