eng
Монокристалл карбида кремния выращен методом высокотемпературной сублимации
В Саранске завершились приемо-сдаточные испытания инженерных систем и технологического оборудования Лаборатории объемного синтеза монокристаллов карбида кремния МГУ им. Н.П.Огарева, расположенной на территории АУ "Технопарк Мордовия". В рамках испытаний был выращен монокристалл карбида кремния 4Н-политипа (4H-SiC) диаметром 100 мм (4 дюйма) методом высокотемпературной сублимации c использованием индукционного нагрева, а также монокристалл кремния диаметром около 100 мм с длиной цилиндрической части 180 мм.
Карбид кремния – перспективный материал для создания мощных полупроводниковых приборов. В сравнении с кремнием его отличают: в 10 раз большее электрическое напряжение пробоя, в 5 раз более высокая плотность электрического тока, в 3 раза лучшая теплопроводность, рабочие температуры до 600°C и устойчивость к воздействию радиации. Для микроэлектроники оптимален политип 4H-SiC, имеющий ширину запрещенной зоны 3,23 эВ.
Серийное производство полупроводниковых приборов силовой электроники на основе карбида кремния в России пока отсутствует, хотя основу развития данного направления заложили советские ученые. В 1970-х годах в Ленинградском электротехническом институте (ЛЭТИ) под руководством профессора Юрия Таирова была создана уникальная технология, которая позволила вырастить объемные цилиндрические були карбида кремния однородной структуры. Опытное производство по данной технологии в 1980-х годах наладили на Подольском химико-металлургическом заводе, но в 1987 проект был свернут.
При создании Лаборатории объемного синтеза монокристаллов карбида кремния в МГУ им Н.П.Огарева весь комплекс проектных и строительно-монтажных работ, поставку технологического и инженерного оборудования, проведение пусконаладочных работ и обучение персонала выполнила инжиниринговая компания "ЭлТех СПб". Также специалисты "ЭлТех СПб" проработали технологический маршрут объемного роста монокристалла карбида кремния, определили приоритетных технологических партнеров, в кооперации с одной из западных компаний разработали графитовую ростовую ячейку и установили параметры процесса. Испытания подтвердили правильность выбранных решений.
Лаборатория оснащена двумя установками baSiC-T немецкой фирмы PVA TePla, позволяющими осуществлять объемный рост карбида кремния 4Н-политипа методом высокотемпературной сублимации c использованием индукционного нагрева на затравках размером до
6 дюймов. Также лаборатория укомплектована установкой CGS-Lab фирмы PVA TePla для объемного роста монокристаллов кремния и германия методом Чохральского с применением резистивного нагревателя. На данной установке был выращен монокристалл кремния диаметром около 100 мм и длиной 180 мм.
Лаборатория объемного синтеза монокристаллов карбида кремния МГУ им. Н.П.Огарева – важное звено в развитии кластера силовой электроники Мордовии, включающего также "Центр Нанотехнологий и Наноматериалов " и завод "Электровыпрямитель". Освоение промышленного производства приборов силовой электроники на основе карбида кремния обеспечит оборонный комплекс и гражданский сектор страны современными мощными высоковольтными электронными устройствами и позволит решить стратегическую задачу импортозамещения в данном сегменте.
ЭлТех СПб
запущено производство элементов литографического оборудования
На территории технополиса "Москва" запущена линия по производству элементов электронной оптики на основе МЭМС для безмасочных литографов голландской компании Mapper Lithography. Компания, одним из акционеров которой является "Роснано", вложила в организацию нового производства около 1 млрд. рублей.
Площадь московского завода составляет 2 тыс. м2. Из них половина приходится на чистые помещения, которые, соответствуют классу чистоты по стандарту ISO 6. Производство укомплектовано современным высокотехнологичным оборудованием, в числе которого – литограф ASML, машины для травления SPTS и Lam Research и системы удаления фоторезиста Trymax.
На московском заводе будут работать более 30 человек, которые прошли многомесячное обучение в в Голландии. В их число входит ряд специалистов, долгие годы проработавших на Западе в ведущих компаниях микроэлектронной отрасли и вернувшихся в Россию.
Mapper Lithography более 10 лет разрабатывает технологии электронно-лучевой безмасочной литографии и уже имеет несколько промышленных прототипов литографа, которые были приобретены и проходили тестирование у ведущих игроков отрасли — тайваньской компании TSMC и научно-исследовательского института микроэлектроники CEA-Leti (Франция). На данный момент оборудование компании позволяет достичь разрешения в 22 нм.
В России производится ключевой компонент литографических систем Mapper – электронная оптика на основе микроэлектромеханических систем. Отличие решений Mapper от конкурентов состоит в использовании 13 тыс. лучей одновременно, что резко повышает производительность системы.
Предполагается, что на заводе в Москве будут изготавливаться три типа элементов электронной оптики. Самые простые – спейсеры – служат для разделения элементов электронной оптики. Следующие по сложности структуры – кремниевые электронные линзы, предназначенные для фокусировки и коллимации пучков электронов. Их производство начнется к концу текущего года. Выпуск самых сложных элементов, содержащих электронику управляющих электродов, планируется начать к концу 2015 года.
Объем современного рынка литографического оборудования составляет около
6 млрд. долл., что соответствует продажам нескольких сотен машин в год. К моменту выхода на проектную мощность российский завод Mapper будет выпускать комплекты электронной оптики для 20 машин в год.
Продукция Mapper ориентирована на две рыночные ниши. Во-первых, литографы компании предназначены для небольших, мало- и среднесерийных производителей чипов. Отсутствие необходимости заказывать маски (однин из самых затратных элементов в производстве микроэлектроники) делает рентабельным для таких компании выпуск даже минимальных партий чипов. Во-вторых, продукция Mapper адресована крупным компаниям, заинтересованным в скорейшем продвижении новых продуктов на рынок. Оборудование Mapper позволяет на этапе разработки проверить практически неограниченное количество вариантов дизайна без необходимости создания множества литографических масок, что существенно удешевляет и ускоряет вывод на рынок нового продукта.
Пресс-служба "Роснано"
Инновационное решение для интеллектуальных электрических сетей
"Профотек" и "ЛИСИС" – российские компании, специализирующиеся в области разработки продуктов для цифровых подстанций, – представили на международной выставке CIGRE 2014 во Франции уникальное комплексное решение класса Smart Grid для цифровых подстанций.
Решение, предназначенное для построения цифровых подстанций напряжением 35–1150 кВ, включает оптические измерительные трансформаторы тока и напряжения от "Профотек", а также разработанный "ЛИСИС" аппаратно-программный комплекс, реализующий все функции защиты и управления подстанцией и функционирующий на универсальных серверных платформах. При использовании нового решения совокупная экономия может составить до 60–70% на этапе строительства и до 70% при эксплуатации. Потенциал экономии от внедрения данного решения в масштабах всей энергетической системы России может составить до
30 млрд. рублей в год.
Решение от "Профотек" и "ЛИСИС" полностью основано на разработках российских специалистов и позволяет заметно сократить количество применяемого измерительного и преобразовательного оборудования и кабелей, снизить площадь застройки, максимально стандартизировать и автоматизировать проектные решения. Параллельно обеспечивается принципиально новый уровень удобства эксплуатации благодаря возможности организации удаленного обслуживания, повышается надежность и качество электроснабжения.
Цифровые оптические измерительные трансформаторы предназначены для высокоточного измерения тока, напряжения и их фазовых характеристик, выдачи измеренных значений по цифровому интерфейсу для использования вторичным оборудованием – счетчиками коммерческого учета, а также приборами телеметрии, контроля качества электроэнергии, релейной защиты и автоматики. Разработанные компанией "Профотек" трансформаторы обеспечивают полностью цифровые измерения с минимально достижимым на сегодняшний день уровнем погрешности. При интеграции в структуру подстанции они позволяют оптимизировать архитектуру систем измерения, защиты, управления и контроля качества электроэнергии.
Программно-технический комплекс iSAS, разработанный компанией "ЛИСИС", – это программно-технический комплекс автоматизации электрических подстанций на базе технологической платформы с унификацией всех функций защиты, управления, измерений и контроля. Решение легко переносимо на любые аппаратные платформы, работающие под управлением ОС Linux.
На данный момент Smart Grid – одна из ключевых тенденций в области повышения эффективности генерации, передачи и распределения электроэнергии. Прогнозируется, что сумма инвестиций в развитие Smart Grid в мире до 2020 года составит 400 млрд. долл. Лидеры – Китай, США, Япония, Южная Корея и Испания. Новое совместное решение компаний "Профотек" и "ЛИСИС" позволит России не только достичь значительной экономии в масштабах всей отрасли, но и конкурировать на российском и мировом рынках с передовыми разработками лидеров отрасли.
Пресс-служба "Роснано"
форум и выставка "Открытые инновации 2014"
С 14 по 16 октября в технополисе "Москва" состоятся форум и выставка "Открытые инновации 2014", организованные правительством РФ при содействии министерства экономического развития РФ, правительства Москвы, компаний "Роснано" и "РВК", "Внешэкономбанка", Агентства стратегических инициатив, фонда "Сколково", Фонда содействия развитию малых форм предприятий в научно-технической сфере и торгово-промышленной палаты РФ. Тема форума – "Созидательное разрушение: как сохранить конкурентоспособность в XXI веке".
За три года проведения "Открытые инновации" приобрели статус глобальной дискуссионной площадки, посвященной новейшим технологиям и перспективам международной кооперации в области инноваций. В работе форума и выставки принимают участие главы инновационных корпораций, научных и образовательных институтов, государственные деятели и авторитетные эксперты из многих стран мира. Программа разделена на 16 секций, на которых будут рассмотрены актуальные вопросы организации коммерчески успешного инновационного процесса и создания новых конкурентных преимуществ в условиях изменяющихся рынков.
Страной – партнером форума и выставки в 2014 году выступает Китайская Народная Республика. Ключевое новшество – выделенная зона, в которой будут представлены 150 технологических стартапов и специальная программа для их команд. В дни работы форума в технополисе "Москва" будет организована экспозиция Science art, все произведения которой будут демонстрироваться в России впервые.
forinnovations.ru
В Саранске завершились приемо-сдаточные испытания инженерных систем и технологического оборудования Лаборатории объемного синтеза монокристаллов карбида кремния МГУ им. Н.П.Огарева, расположенной на территории АУ "Технопарк Мордовия". В рамках испытаний был выращен монокристалл карбида кремния 4Н-политипа (4H-SiC) диаметром 100 мм (4 дюйма) методом высокотемпературной сублимации c использованием индукционного нагрева, а также монокристалл кремния диаметром около 100 мм с длиной цилиндрической части 180 мм.
Карбид кремния – перспективный материал для создания мощных полупроводниковых приборов. В сравнении с кремнием его отличают: в 10 раз большее электрическое напряжение пробоя, в 5 раз более высокая плотность электрического тока, в 3 раза лучшая теплопроводность, рабочие температуры до 600°C и устойчивость к воздействию радиации. Для микроэлектроники оптимален политип 4H-SiC, имеющий ширину запрещенной зоны 3,23 эВ.
Серийное производство полупроводниковых приборов силовой электроники на основе карбида кремния в России пока отсутствует, хотя основу развития данного направления заложили советские ученые. В 1970-х годах в Ленинградском электротехническом институте (ЛЭТИ) под руководством профессора Юрия Таирова была создана уникальная технология, которая позволила вырастить объемные цилиндрические були карбида кремния однородной структуры. Опытное производство по данной технологии в 1980-х годах наладили на Подольском химико-металлургическом заводе, но в 1987 проект был свернут.
При создании Лаборатории объемного синтеза монокристаллов карбида кремния в МГУ им Н.П.Огарева весь комплекс проектных и строительно-монтажных работ, поставку технологического и инженерного оборудования, проведение пусконаладочных работ и обучение персонала выполнила инжиниринговая компания "ЭлТех СПб". Также специалисты "ЭлТех СПб" проработали технологический маршрут объемного роста монокристалла карбида кремния, определили приоритетных технологических партнеров, в кооперации с одной из западных компаний разработали графитовую ростовую ячейку и установили параметры процесса. Испытания подтвердили правильность выбранных решений.
Лаборатория оснащена двумя установками baSiC-T немецкой фирмы PVA TePla, позволяющими осуществлять объемный рост карбида кремния 4Н-политипа методом высокотемпературной сублимации c использованием индукционного нагрева на затравках размером до
6 дюймов. Также лаборатория укомплектована установкой CGS-Lab фирмы PVA TePla для объемного роста монокристаллов кремния и германия методом Чохральского с применением резистивного нагревателя. На данной установке был выращен монокристалл кремния диаметром около 100 мм и длиной 180 мм.
Лаборатория объемного синтеза монокристаллов карбида кремния МГУ им. Н.П.Огарева – важное звено в развитии кластера силовой электроники Мордовии, включающего также "Центр Нанотехнологий и Наноматериалов " и завод "Электровыпрямитель". Освоение промышленного производства приборов силовой электроники на основе карбида кремния обеспечит оборонный комплекс и гражданский сектор страны современными мощными высоковольтными электронными устройствами и позволит решить стратегическую задачу импортозамещения в данном сегменте.
ЭлТех СПб
запущено производство элементов литографического оборудования
На территории технополиса "Москва" запущена линия по производству элементов электронной оптики на основе МЭМС для безмасочных литографов голландской компании Mapper Lithography. Компания, одним из акционеров которой является "Роснано", вложила в организацию нового производства около 1 млрд. рублей.
Площадь московского завода составляет 2 тыс. м2. Из них половина приходится на чистые помещения, которые, соответствуют классу чистоты по стандарту ISO 6. Производство укомплектовано современным высокотехнологичным оборудованием, в числе которого – литограф ASML, машины для травления SPTS и Lam Research и системы удаления фоторезиста Trymax.
На московском заводе будут работать более 30 человек, которые прошли многомесячное обучение в в Голландии. В их число входит ряд специалистов, долгие годы проработавших на Западе в ведущих компаниях микроэлектронной отрасли и вернувшихся в Россию.
Mapper Lithography более 10 лет разрабатывает технологии электронно-лучевой безмасочной литографии и уже имеет несколько промышленных прототипов литографа, которые были приобретены и проходили тестирование у ведущих игроков отрасли — тайваньской компании TSMC и научно-исследовательского института микроэлектроники CEA-Leti (Франция). На данный момент оборудование компании позволяет достичь разрешения в 22 нм.
В России производится ключевой компонент литографических систем Mapper – электронная оптика на основе микроэлектромеханических систем. Отличие решений Mapper от конкурентов состоит в использовании 13 тыс. лучей одновременно, что резко повышает производительность системы.
Предполагается, что на заводе в Москве будут изготавливаться три типа элементов электронной оптики. Самые простые – спейсеры – служат для разделения элементов электронной оптики. Следующие по сложности структуры – кремниевые электронные линзы, предназначенные для фокусировки и коллимации пучков электронов. Их производство начнется к концу текущего года. Выпуск самых сложных элементов, содержащих электронику управляющих электродов, планируется начать к концу 2015 года.
Объем современного рынка литографического оборудования составляет около
6 млрд. долл., что соответствует продажам нескольких сотен машин в год. К моменту выхода на проектную мощность российский завод Mapper будет выпускать комплекты электронной оптики для 20 машин в год.
Продукция Mapper ориентирована на две рыночные ниши. Во-первых, литографы компании предназначены для небольших, мало- и среднесерийных производителей чипов. Отсутствие необходимости заказывать маски (однин из самых затратных элементов в производстве микроэлектроники) делает рентабельным для таких компании выпуск даже минимальных партий чипов. Во-вторых, продукция Mapper адресована крупным компаниям, заинтересованным в скорейшем продвижении новых продуктов на рынок. Оборудование Mapper позволяет на этапе разработки проверить практически неограниченное количество вариантов дизайна без необходимости создания множества литографических масок, что существенно удешевляет и ускоряет вывод на рынок нового продукта.
Пресс-служба "Роснано"
Инновационное решение для интеллектуальных электрических сетей
"Профотек" и "ЛИСИС" – российские компании, специализирующиеся в области разработки продуктов для цифровых подстанций, – представили на международной выставке CIGRE 2014 во Франции уникальное комплексное решение класса Smart Grid для цифровых подстанций.
Решение, предназначенное для построения цифровых подстанций напряжением 35–1150 кВ, включает оптические измерительные трансформаторы тока и напряжения от "Профотек", а также разработанный "ЛИСИС" аппаратно-программный комплекс, реализующий все функции защиты и управления подстанцией и функционирующий на универсальных серверных платформах. При использовании нового решения совокупная экономия может составить до 60–70% на этапе строительства и до 70% при эксплуатации. Потенциал экономии от внедрения данного решения в масштабах всей энергетической системы России может составить до
30 млрд. рублей в год.
Решение от "Профотек" и "ЛИСИС" полностью основано на разработках российских специалистов и позволяет заметно сократить количество применяемого измерительного и преобразовательного оборудования и кабелей, снизить площадь застройки, максимально стандартизировать и автоматизировать проектные решения. Параллельно обеспечивается принципиально новый уровень удобства эксплуатации благодаря возможности организации удаленного обслуживания, повышается надежность и качество электроснабжения.
Цифровые оптические измерительные трансформаторы предназначены для высокоточного измерения тока, напряжения и их фазовых характеристик, выдачи измеренных значений по цифровому интерфейсу для использования вторичным оборудованием – счетчиками коммерческого учета, а также приборами телеметрии, контроля качества электроэнергии, релейной защиты и автоматики. Разработанные компанией "Профотек" трансформаторы обеспечивают полностью цифровые измерения с минимально достижимым на сегодняшний день уровнем погрешности. При интеграции в структуру подстанции они позволяют оптимизировать архитектуру систем измерения, защиты, управления и контроля качества электроэнергии.
Программно-технический комплекс iSAS, разработанный компанией "ЛИСИС", – это программно-технический комплекс автоматизации электрических подстанций на базе технологической платформы с унификацией всех функций защиты, управления, измерений и контроля. Решение легко переносимо на любые аппаратные платформы, работающие под управлением ОС Linux.
На данный момент Smart Grid – одна из ключевых тенденций в области повышения эффективности генерации, передачи и распределения электроэнергии. Прогнозируется, что сумма инвестиций в развитие Smart Grid в мире до 2020 года составит 400 млрд. долл. Лидеры – Китай, США, Япония, Южная Корея и Испания. Новое совместное решение компаний "Профотек" и "ЛИСИС" позволит России не только достичь значительной экономии в масштабах всей отрасли, но и конкурировать на российском и мировом рынках с передовыми разработками лидеров отрасли.
Пресс-служба "Роснано"
форум и выставка "Открытые инновации 2014"
С 14 по 16 октября в технополисе "Москва" состоятся форум и выставка "Открытые инновации 2014", организованные правительством РФ при содействии министерства экономического развития РФ, правительства Москвы, компаний "Роснано" и "РВК", "Внешэкономбанка", Агентства стратегических инициатив, фонда "Сколково", Фонда содействия развитию малых форм предприятий в научно-технической сфере и торгово-промышленной палаты РФ. Тема форума – "Созидательное разрушение: как сохранить конкурентоспособность в XXI веке".
За три года проведения "Открытые инновации" приобрели статус глобальной дискуссионной площадки, посвященной новейшим технологиям и перспективам международной кооперации в области инноваций. В работе форума и выставки принимают участие главы инновационных корпораций, научных и образовательных институтов, государственные деятели и авторитетные эксперты из многих стран мира. Программа разделена на 16 секций, на которых будут рассмотрены актуальные вопросы организации коммерчески успешного инновационного процесса и создания новых конкурентных преимуществ в условиях изменяющихся рынков.
Страной – партнером форума и выставки в 2014 году выступает Китайская Народная Республика. Ключевое новшество – выделенная зона, в которой будут представлены 150 технологических стартапов и специальная программа для их команд. В дни работы форума в технополисе "Москва" будет организована экспозиция Science art, все произведения которой будут демонстрироваться в России впервые.
forinnovations.ru
Отзывы читателей
