eng
Выпуск #1/2016
А.Штамм
Плазменные технологии для формирования структур микро- и наноэлектроники
Плазменные технологии для формирования структур микро- и наноэлектроники
Просмотры: 3834
DOI:10.22184/1993-8578.2016.63.1.46.48
Oxford Instruments – один из ведущих мировых разработчиков и производителей оборудования для нанотехнологий. Компания, годовой доход которой в 2014/2015 финансовом году составил более 385 миллионов фунтов стерлингов, предлагает технологическое оборудование для разработки и производства микроэлектроники для решения широкого спектра задач в области специальной и бытовой электроники, химии и нефтехимии, биотехнологий, энергетики, добычи полезных ископаемых, пищевой промышленности и других отраслей. В число ключевых технологических направлений Oxford Instruments входят технологии плазмохимического и ионно-лучевого травления, осаждения/напыления для формирования микро- и наноструктур. Среди оборудования для плазменной обработки компания производит системы атомно-слоевого осаждения, химического осаждения из газовой фазы, травления индуктивно-связанной плазмой, ионно-лучевого напыления и травления, плазмохимического осаждения из газовой фазы, вакуумного напыления, реактивного ионного травления. Более подробно о работе Oxford Instruments Plasma Technology рассказал директор по продажам в Европе Андреас Штамм.
Господин Штамм, каковы тенденции в развитии плазменных технологий осаждения и травления тонких пленок?
Главным драйвером развития тонкопленочных технологий по-прежнему является классическая микроэлектроника, однако спектр применений различных способов осаждения и травления постоянно расширяется, например, все более значимыми становятся микросистемная техника, фотовольтаика, фотоника, биология и медицина. Наиболее широко востребованы на рынке технологии плазменного травления, а по темпам роста лидерство принадлежит атомно-слоевому осаждению.
Основные технические тенденции определяются требованиями заказчиков, которые можно условно разделить на две группы: рост скорости процессов и повышение точности. Первая группа более характерна для промышленных предприятий, занимающихся крупносерийным, а также массовым производством, вторая – для научных центров и исследовательских подразделений компаний. Мы ведем работу в обоих направлениях, уделяя пристальное внимание повышению и скорости, и точности процессов осаждения и травления пленок как в лабораторном оборудовании, так и в высокоавтоматизированных кластерных системах для промышленности.
Как вы оцениваете позиции Oxford Instruments в основных сегментах рынка?
Наша компания работает в области тонкопленочных технологий уже около 45 лет, являясь одним из пионеров этого рынка. Это обеспечило нам серьезный отрыв от большинства конкурентов – предприятий со значительно меньшим опытом. В сегментах оборудования для плазменного травления и плазмохимического осаждения из газовой фазы для НИОКР наша доля достигает 40–50%, в сегменте систем атомно-слоевого осаждения и травления – до 20%.
В деловой программе выставки SEMICON Europa 2015 особое внимание было уделено технологии атомно-слоевого осаждения, как вы оцениваете перспективы в данной области?
Это технология интересна возможностями работы с очень широким спектром материалов, включая оксиды, фториды, нитриды, сульфиды, чистые металлы, гибридные соединения, и точного контроля процессов получения или удаления тонкопленочных покрытий. Атомно-слоевое осаждение успешно используют для нанесения пленок подзатворных оксидов редкоземельных элементов, диэлектриков в накопительных конденсаторах, пассивирующих слоев в органических светодиодах и солнечных элементах из кристаллического кремния, адгезионных слоев, пленок органических полупроводников, формирования диффузионных барьеров в медных интерконнекторах и других задач. Важно, что такой принцип может быть использован как для осаждения моноатомных слоев, так и для послойного удаления поверхностного слоя. В последнем случае говорят об атомно-слоевом травлении – Atomic Layer Etching (ALEt). Эта новая технология травления имеет очень хорошие перспективы в полупроводниковой промышленности, ввиду продолжающегося уменьшения топологических норм и развития производства трехмерных структур, в которых необходим прецизионный контроль толщины формируемых структур. Мы выпускаем установки атомно-слоевого осаждения как для промышленного производства, так и для научных исследований.
Как организована работа Oxford Instruments Plasma Technology в России?
В России наши решения в области плазменных технологий представляет компания "Техноинфо". За несколько последних лет установлено более 100 единиц оборудования, однако сейчас работе мешает политическая ситуация. Очень надеемся, что это временный фактор, и в скором времени технологическое сотрудничество между Европой и Россией будет восстановлено в полном объеме.
Господин Штамм, каковы тенденции в развитии плазменных технологий осаждения и травления тонких пленок?
Главным драйвером развития тонкопленочных технологий по-прежнему является классическая микроэлектроника, однако спектр применений различных способов осаждения и травления постоянно расширяется, например, все более значимыми становятся микросистемная техника, фотовольтаика, фотоника, биология и медицина. Наиболее широко востребованы на рынке технологии плазменного травления, а по темпам роста лидерство принадлежит атомно-слоевому осаждению.
Основные технические тенденции определяются требованиями заказчиков, которые можно условно разделить на две группы: рост скорости процессов и повышение точности. Первая группа более характерна для промышленных предприятий, занимающихся крупносерийным, а также массовым производством, вторая – для научных центров и исследовательских подразделений компаний. Мы ведем работу в обоих направлениях, уделяя пристальное внимание повышению и скорости, и точности процессов осаждения и травления пленок как в лабораторном оборудовании, так и в высокоавтоматизированных кластерных системах для промышленности.
Как вы оцениваете позиции Oxford Instruments в основных сегментах рынка?
Наша компания работает в области тонкопленочных технологий уже около 45 лет, являясь одним из пионеров этого рынка. Это обеспечило нам серьезный отрыв от большинства конкурентов – предприятий со значительно меньшим опытом. В сегментах оборудования для плазменного травления и плазмохимического осаждения из газовой фазы для НИОКР наша доля достигает 40–50%, в сегменте систем атомно-слоевого осаждения и травления – до 20%.
В деловой программе выставки SEMICON Europa 2015 особое внимание было уделено технологии атомно-слоевого осаждения, как вы оцениваете перспективы в данной области?
Это технология интересна возможностями работы с очень широким спектром материалов, включая оксиды, фториды, нитриды, сульфиды, чистые металлы, гибридные соединения, и точного контроля процессов получения или удаления тонкопленочных покрытий. Атомно-слоевое осаждение успешно используют для нанесения пленок подзатворных оксидов редкоземельных элементов, диэлектриков в накопительных конденсаторах, пассивирующих слоев в органических светодиодах и солнечных элементах из кристаллического кремния, адгезионных слоев, пленок органических полупроводников, формирования диффузионных барьеров в медных интерконнекторах и других задач. Важно, что такой принцип может быть использован как для осаждения моноатомных слоев, так и для послойного удаления поверхностного слоя. В последнем случае говорят об атомно-слоевом травлении – Atomic Layer Etching (ALEt). Эта новая технология травления имеет очень хорошие перспективы в полупроводниковой промышленности, ввиду продолжающегося уменьшения топологических норм и развития производства трехмерных структур, в которых необходим прецизионный контроль толщины формируемых структур. Мы выпускаем установки атомно-слоевого осаждения как для промышленного производства, так и для научных исследований.
Как организована работа Oxford Instruments Plasma Technology в России?
В России наши решения в области плазменных технологий представляет компания "Техноинфо". За несколько последних лет установлено более 100 единиц оборудования, однако сейчас работе мешает политическая ситуация. Очень надеемся, что это временный фактор, и в скором времени технологическое сотрудничество между Европой и Россией будет восстановлено в полном объеме.
Отзывы читателей
