eng
Выпуск #1/2016
Б.Груска
Передовые решения для травления, нанесения и контроля тонких пленок
Передовые решения для травления, нанесения и контроля тонких пленок
Просмотры: 3721
DOI:10.22184/1993-8578.2016.63.1.50.52
Немецкая компания SENTECH Instruments GmbH специализируется на производстве оборудования для плазменного травления, получения тонкопленочных покрытий методами плазменно-химического осаждения из газовой фазы (PECVD) и атомно-слоевого осаждения (ALD), а также приборов для измерения тонких пленок. Об уникальных разработках Sentech и актуальных тенденциях рассказал менеджер по маркетингу и продажам на международном рынке д-р Бернд Груска.
Как вы оцениваете позиции SENTECH в основных сегментах рынка?
Мы являемся технологическими лидерами в сегментах оборудования для реактивно-ионного травления в индуктивно-связанной плазме и систем химического осаждения из газовой фазы в индуктивно-связанной плазме. Следует оговориться, что наше оборудование ориентировано на исследовательский сектор и мелко- и среднесерийное производство на пластинах диаметром от 76 до 200 мм. Также SENTECH входит в тройку мировых лидеров в области разработки и производства эллипсометров, причем по размерам спектрального диапазона наши приборы не имеют конкурентов.
Расскажите, пожалуйста, о наиболее значимых инновациях SENTECH.
Среди наших новых продуктов отмечу кластерную систему для низкотемпературного нанесения тонких пленок. Кластер позволяет объединять оборудование для травления индуктивно-связанной плазмой, реактивного ионного травления, PECVD, в том числе с использованием индуктивно-связанной плазмы, а также ALD. Покрытия наносятся при температурах ниже 200°C. Возможно использование вакуумного загрузочного шлюза и / или кассетной системы. Кластер предназначен для НИОКР в области полупроводниковых устройств – для формирования на пластинах пассивирующих, переходных и защитных слоев, масок и т.п. В частности, большой интерес система представляет для разработок в области органической электроники и фотоники, где недопустимы высокие температуры. Объединение технологических модулей в кластер обеспечивает повышение скорости и удобства работы при меньших инвестициях по сравнению с приобретением отдельных единиц оборудования. Система имеет гибкую конфигурацию, которая создается под задачи заказчика и может быть при необходимости изменена, например, путем добавления новых модулей.
Еще одна очень интересная разработка – система контроля атомно-слоевого осаждения ALD Real Time Monitor. Благодаря оценке в реальном времени характеристик осаждаемой пленки достигаются оптимальное качество покрытия при минимальной продолжительности процесса и экономии прекурсоров и технологических газов. Измерения производятся с временным разрешением 40 мс.
В области аналитического оборудования нашей новой разработкой является технология спектроскопической эллипсометрии для измерения тонких пленок, реализованная в семействе приборов SENresearch. Комбинация принципов ИК-Фурье спектроскопа и диодно-матричного спектрометра обеспечивает уникальное сочетание спектрального разрешения, соотношения "сигнал/шум" и скорости измерений. В частности, скорость измерения приборов SENresearch с этой опцией примерно в 10 раз выше, чем у представленных на рынке аналогов. Спектральный диапазон эллипсометров расширен до 2 500 нм при нижней границе от 190 до 380 нм, в зависимости от применяемого источника излучения и типа оптики.
Как меняются требования к приборам и технологическому оборудованию?
Если говорить об измерительном оборудовании, то очевиден рост сложности исследуемых объектов, в частности, увеличивается число слоев в анализируемых структурах при уменьшении толщины пленок. Также усложняется рельеф объектов – если раньше их поверхность была плоской, то теперь все чаще используются трехмерные функциональные структуры.
В области нанесения покрытий наблюдается тенденция к снижению рабочих температур. 15 лет назад мы были пионерами в области низкотемпературного нанесения покрытий, но тогда спрос на эту технологию был невысок. Около пяти лет назад ситуация на рынке стала меняться, и сейчас значительное число задач требует нанесения пленок при низких температурах – от разработки и производства OLED до случаев, когда сильный нагрев может привести к нежелательным изменениям характеристик поверхности подложки. Кроме того, можно отметить рост требований к универсальности оборудования: заказчикам, которые занимаются исследованиями и мелкосерийным производством, необходимо работать с разными материалами и гибко настраивать параметры процессов.
Востребованы ли решения SENTECH на российском рынке?
Мы уже много лет успешно работаем в России в тесном сотрудничестве с нашим эксклюзивным дистрибьютором ООО "ЭНЕРГОАВАНГАРД". Российские предприятия и исследовательские организации нуждаются в решениях именно того класса, на котором мы специализируемся: универсальных, легко конфигурируемых под требования конкретного проекта и обладающих наилучшими техническими характеристиками. Несмотря на экономический спад и международный политический кризис, я уверен в высоком потенциале российского рынка!
Как вы оцениваете позиции SENTECH в основных сегментах рынка?
Мы являемся технологическими лидерами в сегментах оборудования для реактивно-ионного травления в индуктивно-связанной плазме и систем химического осаждения из газовой фазы в индуктивно-связанной плазме. Следует оговориться, что наше оборудование ориентировано на исследовательский сектор и мелко- и среднесерийное производство на пластинах диаметром от 76 до 200 мм. Также SENTECH входит в тройку мировых лидеров в области разработки и производства эллипсометров, причем по размерам спектрального диапазона наши приборы не имеют конкурентов.
Расскажите, пожалуйста, о наиболее значимых инновациях SENTECH.
Среди наших новых продуктов отмечу кластерную систему для низкотемпературного нанесения тонких пленок. Кластер позволяет объединять оборудование для травления индуктивно-связанной плазмой, реактивного ионного травления, PECVD, в том числе с использованием индуктивно-связанной плазмы, а также ALD. Покрытия наносятся при температурах ниже 200°C. Возможно использование вакуумного загрузочного шлюза и / или кассетной системы. Кластер предназначен для НИОКР в области полупроводниковых устройств – для формирования на пластинах пассивирующих, переходных и защитных слоев, масок и т.п. В частности, большой интерес система представляет для разработок в области органической электроники и фотоники, где недопустимы высокие температуры. Объединение технологических модулей в кластер обеспечивает повышение скорости и удобства работы при меньших инвестициях по сравнению с приобретением отдельных единиц оборудования. Система имеет гибкую конфигурацию, которая создается под задачи заказчика и может быть при необходимости изменена, например, путем добавления новых модулей.
Еще одна очень интересная разработка – система контроля атомно-слоевого осаждения ALD Real Time Monitor. Благодаря оценке в реальном времени характеристик осаждаемой пленки достигаются оптимальное качество покрытия при минимальной продолжительности процесса и экономии прекурсоров и технологических газов. Измерения производятся с временным разрешением 40 мс.
В области аналитического оборудования нашей новой разработкой является технология спектроскопической эллипсометрии для измерения тонких пленок, реализованная в семействе приборов SENresearch. Комбинация принципов ИК-Фурье спектроскопа и диодно-матричного спектрометра обеспечивает уникальное сочетание спектрального разрешения, соотношения "сигнал/шум" и скорости измерений. В частности, скорость измерения приборов SENresearch с этой опцией примерно в 10 раз выше, чем у представленных на рынке аналогов. Спектральный диапазон эллипсометров расширен до 2 500 нм при нижней границе от 190 до 380 нм, в зависимости от применяемого источника излучения и типа оптики.
Как меняются требования к приборам и технологическому оборудованию?
Если говорить об измерительном оборудовании, то очевиден рост сложности исследуемых объектов, в частности, увеличивается число слоев в анализируемых структурах при уменьшении толщины пленок. Также усложняется рельеф объектов – если раньше их поверхность была плоской, то теперь все чаще используются трехмерные функциональные структуры.
В области нанесения покрытий наблюдается тенденция к снижению рабочих температур. 15 лет назад мы были пионерами в области низкотемпературного нанесения покрытий, но тогда спрос на эту технологию был невысок. Около пяти лет назад ситуация на рынке стала меняться, и сейчас значительное число задач требует нанесения пленок при низких температурах – от разработки и производства OLED до случаев, когда сильный нагрев может привести к нежелательным изменениям характеристик поверхности подложки. Кроме того, можно отметить рост требований к универсальности оборудования: заказчикам, которые занимаются исследованиями и мелкосерийным производством, необходимо работать с разными материалами и гибко настраивать параметры процессов.
Востребованы ли решения SENTECH на российском рынке?
Мы уже много лет успешно работаем в России в тесном сотрудничестве с нашим эксклюзивным дистрибьютором ООО "ЭНЕРГОАВАНГАРД". Российские предприятия и исследовательские организации нуждаются в решениях именно того класса, на котором мы специализируемся: универсальных, легко конфигурируемых под требования конкретного проекта и обладающих наилучшими техническими характеристиками. Несмотря на экономический спад и международный политический кризис, я уверен в высоком потенциале российского рынка!
Отзывы читателей
