eng
DOI:10.22184/1993-8578.2016.64.2.20.22
Швейцарская компания Evatec специализируется на разработке и производстве оборудования для получения тонкопленочных покрытий. Штаб-квартира компании находится в городе Трюббах в кантоне Санкт-Галлен. В настоящее время в Evatec работают около 200 специалистов. Линейка оборудования включает системы вакуумного напыления и травления разных типов. В начале 2015 года было завершено приобретение подразделения тонкопленочных технологий группы Oerlikon, что позволило Evatec усилить свои позиции в ключевых сегментах рынка. Аллан Яунценс, глава отдела маркетинга и коммуникаций, рассказал о преимуществах оборудования компании.
Как повлияло на бизнес Evatec приобретение компании Oerlikon Systems?
Покупка подразделения группы Oerlikon, занимавшегося полупроводниковыми и тонкопленочными технологиями, позволила расширить спектр решений для производства трехмерных микросхем, элементов силовой электроники, МЭМС, фотоники, устройств беспроводной связи. В настоящее время мы предлагаем заказчикам широкую линейку оборудования для нанесения, травления и контроля тонких пленок различной производительности для разных отраслей промышленности. В таких сегментах, как системы нанесения тонкопленочных покрытий для 3D-интеграции или производства компонентов для беспроводной связи мы являемся лидерами рынка.
Какие задачи определяют развитие тонкопленочных технологий и какие решения предлагает Evatec?
При высоких объемах производства основная тенденция – улучшение контроля технологических процессов. Мы разработали комплекс методов Advanced Process Control (APC), который позволяет в производственных условиях контролировать технологические режимы и основные параметры тонких пленок. Сочетание оптического контроля толщины пленки, мониторинга стехиометрии, тензометрических методов и электрических измерений обеспечивает получение требуемых механических, оптических и электрических характеристик тонких пленок при высокой повторяемости процессов. APC особенно эффективен при работе с дорогостоящими материалами, так как позволяет минимизировать брак.
Еще одна актуальная задача – упрощение производственных процессов и управления. Для этого используются современные цифровые технологии. Мы создаем оборудование с разной степенью автоматизации, вплоть до полностью автоматических решений. Например, система Solaris может интегрироваться с другими автоматическими линиями для массового производства электронной, оптоэлектронной и оптической продукции – от сенсорных панелей до термоэлектрических генераторов и устройств фотовольтаики на гибких или жестких основах. При этом Solaris универсальна и позволяет наносить тонкие пленки металлов, диэлектриков, оксидов металлов, включая прозрачные токопроводящие оксиды, просветляющие и грязеотталкивающие покрытия.
Улучшение контроля технологических процессов и автоматизация тесно связаны с требованиями к сокращению издержек и удешевлению производства. Вместе с тем, мы помогаем заказчикам успешно решать задачи высокоточного формирования все более сложных структур и очень гладких покрытий на все более разнообразных материалах, что особенно актуально в производстве МЭМС и высокоточной оптики. В электронике тенденцией стало увеличение диаметра и уменьшение толщины пластин, поэтому особое внимание уделяется предотвращению их повреждений в процессе обработки.
В последнее время активно развиваются технологии атомно-слоевого осаждения, как вы оцениваете перспективы их применения в промышленном производстве?
Действительно, атомно-слоевое осаждение и другие новые технологии имеют хороший потенциал, но и возможности совершенствования традиционных способов вакуумного напыления тонких пленок далеко не исчерпаны. Именно различные методы напыления конденсацией из паровой фазы (physical vapour deposition, PVD) наиболее широко применяются в современном массовом производстве электронных и оптических компонентов. Наша компания успешно развивает технологии вакуумного напыления. Например, разработан высокоточный процесс плазменно-ионного напыления (plasma ion assisted evaporation, PIAD), который характеризуется пониженной температурой, высокой скоростью и возможностью тонкой настройки режимов для получения покрытий с требуемыми свойствами. Эта технология оптимальна для производства прецизионных оптических и оптоэлектронных изделий. Также мы развиваем технологию усиленного плазмой химического осаждения из газовой фазы (Plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD), которая позволяет получать покрытия, характеризующиеся высокой однородностью и отсутствием дефектов. При нанесении диэлектриков важно, что такие пленки имеют высокое напряжение пробоя, для оптики принципиальна возможность получения требуемого показателя преломления. Мы обладаем ноу-хау в области низкотемпературного PECVD и выпускаем как оборудование для выполнения отдельных операций, так и кластерные системы. Хочу особо подчеркнуть, что установки Evatec для разных технологий комплектуются самыми современными системами контроля APC.
Текст и фото: О. Лаврентьева, Д.Гудилин
Как повлияло на бизнес Evatec приобретение компании Oerlikon Systems?
Покупка подразделения группы Oerlikon, занимавшегося полупроводниковыми и тонкопленочными технологиями, позволила расширить спектр решений для производства трехмерных микросхем, элементов силовой электроники, МЭМС, фотоники, устройств беспроводной связи. В настоящее время мы предлагаем заказчикам широкую линейку оборудования для нанесения, травления и контроля тонких пленок различной производительности для разных отраслей промышленности. В таких сегментах, как системы нанесения тонкопленочных покрытий для 3D-интеграции или производства компонентов для беспроводной связи мы являемся лидерами рынка.
Какие задачи определяют развитие тонкопленочных технологий и какие решения предлагает Evatec?
При высоких объемах производства основная тенденция – улучшение контроля технологических процессов. Мы разработали комплекс методов Advanced Process Control (APC), который позволяет в производственных условиях контролировать технологические режимы и основные параметры тонких пленок. Сочетание оптического контроля толщины пленки, мониторинга стехиометрии, тензометрических методов и электрических измерений обеспечивает получение требуемых механических, оптических и электрических характеристик тонких пленок при высокой повторяемости процессов. APC особенно эффективен при работе с дорогостоящими материалами, так как позволяет минимизировать брак.
Еще одна актуальная задача – упрощение производственных процессов и управления. Для этого используются современные цифровые технологии. Мы создаем оборудование с разной степенью автоматизации, вплоть до полностью автоматических решений. Например, система Solaris может интегрироваться с другими автоматическими линиями для массового производства электронной, оптоэлектронной и оптической продукции – от сенсорных панелей до термоэлектрических генераторов и устройств фотовольтаики на гибких или жестких основах. При этом Solaris универсальна и позволяет наносить тонкие пленки металлов, диэлектриков, оксидов металлов, включая прозрачные токопроводящие оксиды, просветляющие и грязеотталкивающие покрытия.
Улучшение контроля технологических процессов и автоматизация тесно связаны с требованиями к сокращению издержек и удешевлению производства. Вместе с тем, мы помогаем заказчикам успешно решать задачи высокоточного формирования все более сложных структур и очень гладких покрытий на все более разнообразных материалах, что особенно актуально в производстве МЭМС и высокоточной оптики. В электронике тенденцией стало увеличение диаметра и уменьшение толщины пластин, поэтому особое внимание уделяется предотвращению их повреждений в процессе обработки.
В последнее время активно развиваются технологии атомно-слоевого осаждения, как вы оцениваете перспективы их применения в промышленном производстве?
Действительно, атомно-слоевое осаждение и другие новые технологии имеют хороший потенциал, но и возможности совершенствования традиционных способов вакуумного напыления тонких пленок далеко не исчерпаны. Именно различные методы напыления конденсацией из паровой фазы (physical vapour deposition, PVD) наиболее широко применяются в современном массовом производстве электронных и оптических компонентов. Наша компания успешно развивает технологии вакуумного напыления. Например, разработан высокоточный процесс плазменно-ионного напыления (plasma ion assisted evaporation, PIAD), который характеризуется пониженной температурой, высокой скоростью и возможностью тонкой настройки режимов для получения покрытий с требуемыми свойствами. Эта технология оптимальна для производства прецизионных оптических и оптоэлектронных изделий. Также мы развиваем технологию усиленного плазмой химического осаждения из газовой фазы (Plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD), которая позволяет получать покрытия, характеризующиеся высокой однородностью и отсутствием дефектов. При нанесении диэлектриков важно, что такие пленки имеют высокое напряжение пробоя, для оптики принципиальна возможность получения требуемого показателя преломления. Мы обладаем ноу-хау в области низкотемпературного PECVD и выпускаем как оборудование для выполнения отдельных операций, так и кластерные системы. Хочу особо подчеркнуть, что установки Evatec для разных технологий комплектуются самыми современными системами контроля APC.
Текст и фото: О. Лаврентьева, Д.Гудилин
Отзывы читателей
