eng
Выпуск #2/2017
Ф.Лапорт
Быстрые термические процессы и уникальные тонкопленочные технологии
Быстрые термические процессы и уникальные тонкопленочные технологии
Просмотры: 3221
Получение новых материалов и структур для полупроводниковых приборов, МЭМС, фотоволь-таики, фотоники и других областей требует применения специальных процессов и технологических режимов. В связи с этим большой интерес представляют быстрые термические процессы и системы химического осаждения из газовой фазы и атомно-слоевого осаждения с технологией прямого впрыска жидких прекурсоров. Решения для их реализации разрабатывает и производит компания Annealsys из Монпелье (Франция).
DOI: 10.22184/1993-8578.2017.72.2.24.26
DOI: 10.22184/1993-8578.2017.72.2.24.26
Господин Лапорт, каковы возможности и основные области применения оборудования для быстрых термических процессов?
Быстрые термические процессы можно разделить на три типа: резидентные, когда структура материала преобразуется только за счет нагрева, поверхностные реакции, когда наряду с нагревом на материал воздействуют газообразные дополнительные вещества, а также быстрое термохимическое осаждение из газовой фазы (RTCVD). Первый тип процессов применяется, например, для послеимплантационного отжига, отжига омических контактов, диффузии легирующей примеси, второй тип – для окисления, нитридизации, селенизации, карбонизации кремния. RTCVD используется для получения тонких пленок графена, гексагонального нитрида бора, поликремния, различных соединений кремния.
Наша компания выпускает оборудование для исследований и разработок, а также мелкосерийного производства. Размер обрабатываемых пластин может составлять от трех дюймов в системе AS-Micro до 200 мм в AS-Master. В установке Zenith-100 максимальная температура может достигать 2 000 °С.
Каковы преимущества систем для быстрых термических процессов от Annealsys?
Во-первых, наши установки оснащены системой водяного охлаждения реакторов, которая обеспечивает точный контроль температуры, минимизацию загрязняющих веществ в рабочей камере, минимальный эффект памяти, оптимальное смешивание газов и их равномерное распределение по образцу. Благодаря этому достигаются высокая воспроизводимость процессов и возможность работы с термочувствительными материалами. Во-вторых, наши установки RTP позволяют работать под вакуумом, что значительно расширяет возможности получения новых материалов и структур. И наконец, следует отметить надежность и долговечность нашего оборудования.
Каковы возможности систем DLI?
Установки DLI для тонкопленочных процессов мы начали выпускать в 2011 году. Применение DLI-испарителей обеспечивает возможность работы с чрезвычайно широкой номенклатурой материалов, в том числе прекурсорами, требующими пониженного давления, и термически неустойчивыми прекурсорами. В одной и той же установке возможна реализация процессов CVD, ALD, MOCVD (химическое осаждение из паров металлоорганических соединений), быстрых термических процессов, включая RTCVD. В настоящее время мы выпускаем установки для пластин диаметром от 2 дюймов до 200 мм, ориентированные в первую очередь на исследовательский сектор.
Какие модели оборудования наиболее востребованы на рынке?
Мы продаем в среднем по 25–30 установок в год. Основные рынки – Европа, включая Россию, Северная Америка и Восточная Азия. В исследовательских центрах особенно востребована система RTP AS-One, которая выпускается в модификациях для пластин диаметром 100 или 150 мм, позволяет выполнять нагрев до 1 450 °С, оснащается системой водяного охлаждения камеры и может комплектоваться турбомолекулярным насосом. Многие производители МЭМС используют систему AS-Master для пластин диаметром до 200 мм. Среди систем DLI наиболее популярна универсальная MC-050 для двухдюймовых пластин, которая может оснащаться шестью DLI-испарителями. В России, где нас представляет компания "Минатех", установлено несколько машин для быстрых термических процессов моделей AS-One и AS-Master. Думаю, что в ближайшем будущем российские исследователи начнут использовать и наши разработки в области DLI для тонкопленочных процессов.
Интервью: Дмитрий Гудилин
Быстрые термические процессы можно разделить на три типа: резидентные, когда структура материала преобразуется только за счет нагрева, поверхностные реакции, когда наряду с нагревом на материал воздействуют газообразные дополнительные вещества, а также быстрое термохимическое осаждение из газовой фазы (RTCVD). Первый тип процессов применяется, например, для послеимплантационного отжига, отжига омических контактов, диффузии легирующей примеси, второй тип – для окисления, нитридизации, селенизации, карбонизации кремния. RTCVD используется для получения тонких пленок графена, гексагонального нитрида бора, поликремния, различных соединений кремния.
Наша компания выпускает оборудование для исследований и разработок, а также мелкосерийного производства. Размер обрабатываемых пластин может составлять от трех дюймов в системе AS-Micro до 200 мм в AS-Master. В установке Zenith-100 максимальная температура может достигать 2 000 °С.
Каковы преимущества систем для быстрых термических процессов от Annealsys?
Во-первых, наши установки оснащены системой водяного охлаждения реакторов, которая обеспечивает точный контроль температуры, минимизацию загрязняющих веществ в рабочей камере, минимальный эффект памяти, оптимальное смешивание газов и их равномерное распределение по образцу. Благодаря этому достигаются высокая воспроизводимость процессов и возможность работы с термочувствительными материалами. Во-вторых, наши установки RTP позволяют работать под вакуумом, что значительно расширяет возможности получения новых материалов и структур. И наконец, следует отметить надежность и долговечность нашего оборудования.
Каковы возможности систем DLI?
Установки DLI для тонкопленочных процессов мы начали выпускать в 2011 году. Применение DLI-испарителей обеспечивает возможность работы с чрезвычайно широкой номенклатурой материалов, в том числе прекурсорами, требующими пониженного давления, и термически неустойчивыми прекурсорами. В одной и той же установке возможна реализация процессов CVD, ALD, MOCVD (химическое осаждение из паров металлоорганических соединений), быстрых термических процессов, включая RTCVD. В настоящее время мы выпускаем установки для пластин диаметром от 2 дюймов до 200 мм, ориентированные в первую очередь на исследовательский сектор.
Какие модели оборудования наиболее востребованы на рынке?
Мы продаем в среднем по 25–30 установок в год. Основные рынки – Европа, включая Россию, Северная Америка и Восточная Азия. В исследовательских центрах особенно востребована система RTP AS-One, которая выпускается в модификациях для пластин диаметром 100 или 150 мм, позволяет выполнять нагрев до 1 450 °С, оснащается системой водяного охлаждения камеры и может комплектоваться турбомолекулярным насосом. Многие производители МЭМС используют систему AS-Master для пластин диаметром до 200 мм. Среди систем DLI наиболее популярна универсальная MC-050 для двухдюймовых пластин, которая может оснащаться шестью DLI-испарителями. В России, где нас представляет компания "Минатех", установлено несколько машин для быстрых термических процессов моделей AS-One и AS-Master. Думаю, что в ближайшем будущем российские исследователи начнут использовать и наши разработки в области DLI для тонкопленочных процессов.
Интервью: Дмитрий Гудилин
Отзывы читателей
