eng
Французская компания Corial была создана в 2004 году специалистами, имевшими на тот момент 20-летний опыт разработки решений для травления и осаждения тонких пленок в фирмах Nextral, Alcatel, Balzers и Unaxis. Штаб-квартира и производство Corial расположены в округе Гренобль – центре французской полупроводниковой промышленности. Компания разрабатывает и выпускает оборудование для плазмохимического травления и плазмохимического осаждения из газовой фазы, которое применяется в производстве изделий микроэлектроники, фотоники, фотовольтаики, МЭМС и в других областях. Об инновациях Corial рассказал Андрей Уваров (слева на фото), руководитель отдела разработок.
DOI: 10.22184/1993-8578.2017.73.3.14.16
DOI: 10.22184/1993-8578.2017.73.3.14.16
Рынок оборудования для тонкопленочных технологий насыщен решениями разных классов. Какие позиции занимает на нем компания Corial?
Мы специализируемся на достаточно узком сегменте оборудования для плазмохимических процессов. Разработано несколько продуктовых линеек для пластин диаметром 200 и 300 мм, которые включают в себя как относительно простые установки для реактивного травления и осаждения, так и системы для более сложных технологий, например травления и осаждения в индуктивно-связанной плазме. Большинство наших установок предназначено для исследования и разработок, а также мелкосерийного производства, но предлагаются и системы промышленного класса. В частности, многие производители светодиодов используют наше оборудование для травления сапфировых пластин.
Три года назад была введена в эксплуатацию новая фабрика, позволяющая выпускать до 100 машин в год, которую при необходимости можно будет расширить с удвоением мощности. Мы стараемся использовать преимущественно компоненты французского производства, так как это выгодно с точки зрения сочетания конкурентной цены, высокого качества и малых сроков поставки.
Какие разработки Corial можно особо отметить?
В 2016 году был представлен новый реактор для травления и осаждения в индуктивно-связанной плазме, который эффективен при работе с такими сложными материалами, как сапфир, карбид кремния, стекло, кварц. В его конструкции используются сменные элементы, предотвращающие загрязнение реактора, например при травлении через никелевую маску, что минимизирует время технического обслуживания. Поскольку травление сложных материалов требует высокой мощности, возникает проблема неконтролируемого нагрева. В новом реакторе она решена, и обеспечивается оптимальный тепловой режим процесса.
Важная новая разработка – программное обеспечение COSMA Pulse, которое позволяет циклически менять рабочие параметры технологических процессов, в частности, попеременно проводить травление и осаждение. Такой режим эффективен, например, при травлении стекла и пьезоэлектрических материалов – ниобата лития и танталата лития. При этом обеспечивается хорошая селективность и достаточно высокая скорость травления. Кроме того, новое программное обеспечение позволяет реализовывать атомно-слоевое травление ALE (Atomic Layer Etching), которое применяется для удаления очень тонких слоев вещества. Эта технология востребована, в частности, в производстве транзисторов с высокой подвижностью электронов на полупроводниках A3B5, когда необходимо стравливать слои толщиной в десятки и единицы нанометров. COSMA Pulse совместимо со всеми нашими установками для плазмохимических процессов, поэтому их пользователи могут приобрести соответствующие надстройки и работать в новых режимах.
Еще одна наша новинка – возможность плазмохимического осаждения пленок толщиной до 100 мкм. Такие покрытия востребованы, например, при формировании толстых масок из диоксида кремния, которые не загрязняют реактор при травлении стекла или сапфира. Пленки большой толщины могут использоваться и в производстве МЭМС как жертвенные слои или слои общей изоляции. Мы научились обеспечивать отсутствие механических напряжений и дефектов структуры толстопленочных покрытий, поэтому исключаются их отшелушивание или растрескивание.
Планируете ли вы развивать технологию атомно-слоевого осаждения ALD?
Рынок оборудования для ALD насыщен, поэтому делать акцент на его развитие вряд ли целесообразно. При этом, наши установки могут использоваться для атомно-слоевого осаждения диоксида кремния и нитрида кремния, а новое программное обеспечение позволяет работать в близких к ALD режимах и при осаждении других материалов.
Насколько востребованы решения Corial в России?
Как страна с высокоразвитой наукой, Россия является одним из важных рынков для Corial. Вместе с нашими партнерами из компании "ТБС" мы установили более 40 систем различных моделей для пластин диаметром до 200 мм. Мы приложим все усилия, чтобы достигнутая динамика внедрения нашего оборудования сохранялась и в дальнейшем.
Интервью: Дмитрий Гудилин
Мы специализируемся на достаточно узком сегменте оборудования для плазмохимических процессов. Разработано несколько продуктовых линеек для пластин диаметром 200 и 300 мм, которые включают в себя как относительно простые установки для реактивного травления и осаждения, так и системы для более сложных технологий, например травления и осаждения в индуктивно-связанной плазме. Большинство наших установок предназначено для исследования и разработок, а также мелкосерийного производства, но предлагаются и системы промышленного класса. В частности, многие производители светодиодов используют наше оборудование для травления сапфировых пластин.
Три года назад была введена в эксплуатацию новая фабрика, позволяющая выпускать до 100 машин в год, которую при необходимости можно будет расширить с удвоением мощности. Мы стараемся использовать преимущественно компоненты французского производства, так как это выгодно с точки зрения сочетания конкурентной цены, высокого качества и малых сроков поставки.
Какие разработки Corial можно особо отметить?
В 2016 году был представлен новый реактор для травления и осаждения в индуктивно-связанной плазме, который эффективен при работе с такими сложными материалами, как сапфир, карбид кремния, стекло, кварц. В его конструкции используются сменные элементы, предотвращающие загрязнение реактора, например при травлении через никелевую маску, что минимизирует время технического обслуживания. Поскольку травление сложных материалов требует высокой мощности, возникает проблема неконтролируемого нагрева. В новом реакторе она решена, и обеспечивается оптимальный тепловой режим процесса.
Важная новая разработка – программное обеспечение COSMA Pulse, которое позволяет циклически менять рабочие параметры технологических процессов, в частности, попеременно проводить травление и осаждение. Такой режим эффективен, например, при травлении стекла и пьезоэлектрических материалов – ниобата лития и танталата лития. При этом обеспечивается хорошая селективность и достаточно высокая скорость травления. Кроме того, новое программное обеспечение позволяет реализовывать атомно-слоевое травление ALE (Atomic Layer Etching), которое применяется для удаления очень тонких слоев вещества. Эта технология востребована, в частности, в производстве транзисторов с высокой подвижностью электронов на полупроводниках A3B5, когда необходимо стравливать слои толщиной в десятки и единицы нанометров. COSMA Pulse совместимо со всеми нашими установками для плазмохимических процессов, поэтому их пользователи могут приобрести соответствующие надстройки и работать в новых режимах.
Еще одна наша новинка – возможность плазмохимического осаждения пленок толщиной до 100 мкм. Такие покрытия востребованы, например, при формировании толстых масок из диоксида кремния, которые не загрязняют реактор при травлении стекла или сапфира. Пленки большой толщины могут использоваться и в производстве МЭМС как жертвенные слои или слои общей изоляции. Мы научились обеспечивать отсутствие механических напряжений и дефектов структуры толстопленочных покрытий, поэтому исключаются их отшелушивание или растрескивание.
Планируете ли вы развивать технологию атомно-слоевого осаждения ALD?
Рынок оборудования для ALD насыщен, поэтому делать акцент на его развитие вряд ли целесообразно. При этом, наши установки могут использоваться для атомно-слоевого осаждения диоксида кремния и нитрида кремния, а новое программное обеспечение позволяет работать в близких к ALD режимах и при осаждении других материалов.
Насколько востребованы решения Corial в России?
Как страна с высокоразвитой наукой, Россия является одним из важных рынков для Corial. Вместе с нашими партнерами из компании "ТБС" мы установили более 40 систем различных моделей для пластин диаметром до 200 мм. Мы приложим все усилия, чтобы достигнутая динамика внедрения нашего оборудования сохранялась и в дальнейшем.
Интервью: Дмитрий Гудилин
Отзывы читателей
