eng
DOI: 10.22184/NanoRus.2019.12.89.186.188
Проведен анализ проблем, возникающих при производстве тонкопленочных гибридных интегральных схем (ТП ГИС). Проведено сравнение технологий производства, использующих метод контактной фотолитографии и метод прямого лазерного экспонирования, а также различных способов формирования тонких пленок. Подготовлено комплексное решение для модернизации производства ТП ГИС.
Проведен анализ проблем, возникающих при производстве тонкопленочных гибридных интегральных схем (ТП ГИС). Проведено сравнение технологий производства, использующих метод контактной фотолитографии и метод прямого лазерного экспонирования, а также различных способов формирования тонких пленок. Подготовлено комплексное решение для модернизации производства ТП ГИС.
Отзывы читателей
