eng
Спецвыпуск/2019
Н. А. Кузнецова
Применение нового фоторезиста ФН-16У для создания полупроводниковых приборов и устройств
Применение нового фоторезиста ФН-16У для создания полупроводниковых приборов и устройств
Просмотры: 1547
DOI: 10.22184/NanoRus.2019.12.89.192.193
Фоторезист ФН-16У — новый материал для создания металлических контактов и токопроводящих дорожек в полупроводниковых приборах и устройствах методом «взрывной» фотолитографии.
Фоторезист ФН-16У — новый материал для создания металлических контактов и токопроводящих дорожек в полупроводниковых приборах и устройствах методом «взрывной» фотолитографии.
Отзывы читателей
