eng
Спецвыпуск/2019
Е. Л. Харченко, А. В. Кузовков, В. В. Иванов
Оптимизация размещения SRAF для увеличения разрешающей способности фотолитографии
Оптимизация размещения SRAF для увеличения разрешающей способности фотолитографии
Просмотры: 1411
DOI: 10.22184/NanoRus.2019.12.89.216.218
В данной работе рассмотрен метод оптимизации правил размещения непечатаемых вспомогательных структур в целях увеличения окна процесса и, как следствие, повышения разрешающей способности в фотолитографии.
В данной работе рассмотрен метод оптимизации правил размещения непечатаемых вспомогательных структур в целях увеличения окна процесса и, как следствие, повышения разрешающей способности в фотолитографии.
Отзывы читателей
