eng
Спецвыпуск/2019
М. Г. Бирюков В. В. Одиноков
Вакуумно-плазменные процессы и экспериментальное оборудование для отработки технологий на пластинах O200 мм с топологическими размерами уровня 180–65 нм
Вакуумно-плазменные процессы и экспериментальное оборудование для отработки технологий на пластинах O200 мм с топологическими размерами уровня 180–65 нм
Просмотры: 1634
DOI: 10.22184/NanoRus.2019.12.89.615.623
Рассмотрены актуальные вакуумно-плазменные процессы и экспериментальное оборудование: атомно-слоевое осаждение, плазмохимическое травление, формирование мелкощелевой изоляции и очистка поверхности пластин.
Рассмотрены актуальные вакуумно-плазменные процессы и экспериментальное оборудование: атомно-слоевое осаждение, плазмохимическое травление, формирование мелкощелевой изоляции и очистка поверхности пластин.
Отзывы читателей
