Photoresist FN-16U is a new material for the creation of metal contacts and conductive paths in semiconductor devices by “lift-off” photolithography.

sitemap
Наш сайт использует cookies. Продолжая просмотр, вы даёте согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь с нашей Политикой Конфиденциальности
Согласен
Search:

Sign in
Nanoindustry
Editorial policy
Editorial collegium
Editorial board
Articles annotations
For authors
For reviewers
Publisher
TECHNOSPHERA
TS_pub
technospheramag
technospheramag
ТЕХНОСФЕРА_РИЦ
© 2001-2025
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

Яндекс.Метрика
R&W
 
ISSN 1993-8578
ISSN 2687-0282 (online)
Subscribe:
Print version
E-version
News
 
Sign in:

Your e-mail:
Password:
 
Create your account
Forgot your password?
FOR AUTHORS:

Instruction to authors
FOR REVIEWERS:

Книги по нанотехнологиям
Другие серии книг:
Мир материалов и технологий
Библиотека Института стратегий развития
Мир квантовых технологий
Мир математики
Мир физики и техники
Мир биологии и медицины
Мир химии
Мир наук о Земле
Мир электроники
Мир программирования
Мир связи
Мир строительства
Мир цифровой обработки
Мир экономики
Мир дизайна
Мир увлечений
Мир робототехники и мехатроники
Для кофейников
Мир радиоэлектроники
Библиотечка «КВАНТ»
Умный дом
Мировые бренды
Вне серий
Библиотека климатехника
Мир транспорта
Мир фотоники
Мир станкостроения
Мир метрологии
Мир энергетики
Книги, изданные при поддержке РФФИ
Special Issue/2019
N. A. Kuznetsova
Application of new FN-16U photoresist to create semiconductor devices
Photoresist FN-16U is a new material for the creation of metal contacts and conductive paths in semiconductor devices by “lift-off” photolithography.
Photoresist FN-16U is a new material for the creation of metal contacts and conductive paths in semiconductor devices by “lift-off” photolithography.
 
 Readers feedback
Разработка: студия Green Art