The paper considers features of bulk and surface chemical processing of plates and the formation of a photoresist mask in the creation of MEMS. The requirements for technological equipment have been determined. The design solutions of special technological equipment for manufacturing MEMS have been presented.

sitemap
Наш сайт использует cookies. Продолжая просмотр, вы даёте согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь с нашей Политикой Конфиденциальности
Согласен
Search:

Sign in
Nanoindustry
Editorial policy
Editorial collegium
Editorial board
Articles annotations
For authors
For reviewers
Publisher
TECHNOSPHERA
TS_pub
technospheramag
technospheramag
ТЕХНОСФЕРА_РИЦ
© 2001-2025
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

Яндекс.Метрика
R&W
 
 
Sign in:

Your e-mail:
Password:
 
Create your account
Forgot your password?
FOR AUTHORS:

Instruction to authors
FOR REVIEWERS:

Книги по нанотехнологиям
Другие серии книг:
Мир материалов и технологий
Библиотека Института стратегий развития
Мир квантовых технологий
Мир математики
Мир физики и техники
Мир биологии и медицины
Мир химии
Мир наук о Земле
Мир электроники
Мир программирования
Мир связи
Мир строительства
Мир цифровой обработки
Мир экономики
Мир дизайна
Мир увлечений
Мир робототехники и мехатроники
Для кофейников
Мир радиоэлектроники
Библиотечка «КВАНТ»
Умный дом
Мировые бренды
Вне серий
Библиотека климатехника
Мир транспорта
Мир фотоники
Мир станкостроения
Мир метрологии
Мир энергетики
Книги, изданные при поддержке РФФИ
Special Issue/2019
V. F. Tupikin Yu. V. Gerasimenko A. S. Ermakova N. V. Komarov V. N. Komarov A. I. Sergienko
Technological features of technochemical wafer processing in technological process of manufacturing MEMS and microassemblies and promising design solutions for their implementation
The paper considers features of bulk and surface chemical processing of plates and the formation of a photoresist mask in the creation of MEMS. The requirements for technological equipment have been determined. The design solutions of special technological equipment for manufacturing MEMS have been presented.
The paper considers features of bulk and surface chemical processing of plates and the formation of a photoresist mask in the creation of MEMS. The requirements for technological equipment have been determined. The design solutions of special technological equipment for manufacturing MEMS have been presented.
 
 Readers feedback
Разработка: студия Green Art