sitemap
Наш сайт использует cookies. Продолжая просмотр, вы даёте согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь с нашей Политикой Конфиденциальности
Согласен
Поиск:

Вход
Архив журнала
Журналы
Медиаданные
Редакционная политика
Реклама
Авторам
Контакты
TS_pub
technospheramag
technospheramag
ТЕХНОСФЕРА_РИЦ
© 2001-2025
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

Яндекс.Метрика
R&W
 
ISSN 1993-8578
ISSN 2687-0282 (online)
Книги по нанотехнологиям
 
Вход:

Ваш e-mail:
Пароль:
 
Регистрация
Забыли пароль?
Тег "plasma-chemical etching"
Наноиндустрия #1/2018
С.Одиноков, Г.Сагателян, К.Бугорков, Е.Дроздова
Закономерности и особенности двухстороннего плазмохимического травления деталей из оптического стекла
Рассмотрено одновременное формирование функционального рельефа на обеих рабочих поверхностях оптических плоскопараллельных пластин при изготовлении дифракционных и голограммных оптических элементов. Исследованы технологические возможности плазмохимического травления стекла с размещением заготовки в объеме плазмы и применением установки диодного типа с вынесенным планарным индуктором. Показано, что ограничивающим качество травления фактором является отвод продуктов химических реакций от обрабатываемой поверхности. УДК 533.924, 621.7-4, 621.9, 67.02, 681.7.026.5; ВАК 05.16.08; DOI: 10.22184/1993-8578.2018.80.1.50.62
Наноиндустрия #7/2017
В.Одиноков
Новые вакуумно-плазменные процессы и оборудование для микроэлектроники
Рассмотрены актуальные вакуумно-плазменные процессы для микроэлектроники: атомно-слоевое осаждение, плазмохимическое травление, формирование мелкощелевой изоляции и очистка поверхности пластин. УДК 621.382, ВАК 05.27.01, DOI: 10.22184/1993-8578.2017.78.7.72.81
Разработка: студия Green Art