Наноиндустрия - научно-технический журнал - Материалы тега

главная

eng

Вход

Архив журнала

Журналы

Медиаданные

Редакционная политика

Авторам

Контакты

© 2001-2024
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

R&W

ISSN 1993-8578
ISSN 2687-0282 (online)

Книги по нанотехнологиям

Тег "resistance to charged particles impact"

Наноиндустрия #9/2018
Чистяков Михаил Геннадьевич
Исследование и оптимизация по критерию сбоеустойчивости ячейки памяти для технологии КНИ КМОП 0,25 мкм при облучении быстрыми нейтронами

В статье исследована устойчивость к сбоям ячейки памяти, спроектированной по технологии КНИ 0,25 мкм. Рассмотрены возможные ситуации сбоев при попадании в ячейку памяти быстрых нейтронов. Также рассмотрены основные методы повышения сбоеустойчивости ячеек памяти. Приведены рекомендации по повышению устойчивости к сбоям ячеек памяти. УДК 621.382, ББК 32.85 DOI: 10.22184/1993-8578.2018.82.351.358