Наноиндустрия - научно-технический журнал - Материалы тега - ion-doped region internal mechanical stresses

главная

eng

Вход

Архив журнала

Журналы

Медиаданные

Редакционная политика

Авторам

Контакты

© 2001-2024
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

R&W

ISSN 1993-8578
ISSN 2687-0282 (online)

Книги по нанотехнологиям

Тег "ion-doped region internal mechanical stresses"

Наноиндустрия #6/2018
Г.Баранов, А.Итальянцев, Н.Герасименко, А.Селецкий
Физические особенности формирования локальных субмикронных ионно-имплантированных областей

Стремление производителей к уменьшению проектных норм сталкивается с трудностями при создании наноразмерных ионно-легированных зон методами ионной имплантации. Создание зон происходит в условиях сильных электрических и механических полей, связанных с присутствием маскирующего слоя. Выполнены численные оценки размерных факторов окна имплантации с учетом действия силовых полей при конструктивно-технологическом проектировании приборов кремниевой микроэлектроники. УДК 621.315.592.3; ВАК 05.27.01; DOI: 10.22184/1993-8578.2018.11.6.426.433