Наноиндустрия - научно-технический журнал - Материалы тега

главная

eng

Вход

Архив журнала

Журналы

Медиаданные

Редакционная политика

Авторам

Контакты

© 2001-2024
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

R&W

ISSN 1993-8578
ISSN 2687-0282 (online)

Книги по нанотехнологиям

Тег "плазма индуктивного разряда"

Наноиндустрия #5/2012
В.Одиноков, Г.Павлов, В.Самойликов, П.Иракин
Газофазное осаждение структур, активируемых низкотемпературной плазмой

Повышение качества слоев при минимизации воздействия на поверхность и нижележащие структуры достигается применением газофазного осаждения, стимулированного плазмой индуктивного разряда (ICP CVD). Учет газодинамических особенностей инжекция рабочих газов из газового кольца, окружающего подложку, в реактор с рабочим вакуумом открывает новые возможности при разработке высокоэффективного оборудования для пластин большого диаметра. В работе исследуется влияние давления в реакторе на газодинамику осаждения нитрида кремния.