sitemap
Наш сайт использует cookies. Продолжая просмотр, вы даёте согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь с нашей Политикой Конфиденциальности
Согласен
Поиск:

Вход
Архив журнала
Журналы
Медиаданные
Редакционная политика
Реклама
Авторам
Контакты
TS_pub
technospheramag
technospheramag
ТЕХНОСФЕРА_РИЦ
© 2001-2025
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

Яндекс.Метрика
R&W
 
ISSN 1993-8578
ISSN 2687-0282 (online)
Книги по нанотехнологиям
 
Вход:

Ваш e-mail:
Пароль:
 
Регистрация
Забыли пароль?
Книги по нанотехнологиям
Другие серии книг:
Мир материалов и технологий
Библиотека Института стратегий развития
Мир квантовых технологий
Мир математики
Мир физики и техники
Мир биологии и медицины
Мир химии
Мир наук о Земле
Мир электроники
Мир программирования
Мир связи
Мир строительства
Мир цифровой обработки
Мир экономики
Мир дизайна
Мир увлечений
Мир робототехники и мехатроники
Для кофейников
Мир радиоэлектроники
Библиотечка «КВАНТ»
Умный дом
Мировые бренды
Вне серий
Библиотека климатехника
Мир транспорта
Мир фотоники
Мир станкостроения
Мир метрологии
Мир энергетики
Книги, изданные при поддержке РФФИ
Тег "газофазное осаждение"
Наноиндустрия #5/2012
В.Одиноков, Г.Павлов, В.Самойликов, П.Иракин
Газофазное осаждение структур, активируемых низкотемпературной плазмой
Повышение качества слоев при минимизации воздействия на поверхность и нижележащие структуры достигается применением газофазного осаждения, стимулированного плазмой индуктивного разряда (ICP CVD). Учет газодинамических особенностей инжекция рабочих газов из газового кольца, окружающего подложку, в реактор с рабочим вакуумом открывает новые возможности при разработке высокоэффективного оборудования для пластин большого диаметра. В работе исследуется влияние давления в реакторе на газодинамику осаждения нитрида кремния.
Разработка: студия Green Art