Наноиндустрия - научно-технический журнал - Материалы тега

главная

eng

Вход

Архив журнала

Журналы

Медиаданные

Редакционная политика

© 2001-2025
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

R&W

ISSN 1993-8578
ISSN 2687-0282 (online)

Книги по нанотехнологиям

Статьи

Наноиндустрия #7-8/2024

Новости // все новости

26.02.2025

10.02.2025

События // все события

c 09.04.2025 до 11.04.2025

Тег "inductively coupled plasma"

Наноиндустрия #1/2018
С.Одиноков, Г.Сагателян, К.Бугорков, Е.Дроздова
Закономерности и особенности двухстороннего плазмохимического травления деталей из оптического стекла

Рассмотрено одновременное формирование функционального рельефа на обеих рабочих поверхностях оптических плоскопараллельных пластин при изготовлении дифракционных и голограммных оптических элементов. Исследованы технологические возможности плазмохимического травления стекла с размещением заготовки в объеме плазмы и применением установки диодного типа с вынесенным планарным индуктором. Показано, что ограничивающим качество травления фактором является отвод продуктов химических реакций от обрабатываемой поверхности. УДК 533.924, 621.7-4, 621.9, 67.02, 681.7.026.5; ВАК 05.16.08; DOI: 10.22184/1993-8578.2018.80.1.50.62

Аналитика #5/2016
К.Гордеев, С.Жохов
Масс-спектрометрия сегодня: новейшие технологии и оборудование

Масс-спектрометрия (МС) принадлежит к числу наиболее информативных и активно развивающихся методов химического анализа. Сегодня без использования МС не обходятся как самые передовые исследования в области материаловедения и наук о жизни, так и рутинные анализы: от мониторинга состояния окружающей среды и состава пищевых продуктов до медицинской диагностики. На выставке analytica 2016 ведущие мировые производители представили новейшие разработки в области масс-спектрометрии.

Наноиндустрия #5/2012
В.Одиноков, Г.Павлов, В.Самойликов, П.Иракин
Газофазное осаждение структур, активируемых низкотемпературной плазмой

Повышение качества слоев при минимизации воздействия на поверхность и нижележащие структуры достигается применением газофазного осаждения, стимулированного плазмой индуктивного разряда (ICP CVD). Учет газодинамических особенностей инжекция рабочих газов из газового кольца, окружающего подложку, в реактор с рабочим вакуумом открывает новые возможности при разработке высокоэффективного оборудования для пластин большого диаметра. В работе исследуется влияние давления в реакторе на газодинамику осаждения нитрида кремния.