Наноиндустрия - научно-технический журнал - Материалы тега

главная

eng

Вход

Архив журнала

Журналы

Медиаданные

Редакционная политика

Авторам

Контакты

© 2001-2024
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

R&W

ISSN 1993-8578
ISSN 2687-0282 (online)

Книги по нанотехнологиям

Тег "afm lithography"

Наноиндустрия #2/2011
В.Швец
Создание структур из оксида на поверхности графита

Развитие современной электроники требует постоянного уменьшения размеров создаваемых структур, одним из перспективных способов получения которых являются методы литографии с помощью атомно-силового микроскопа. Эти методы включают механическое индентирование поверхности, в том числе термомеханическое, манипуляцию отдельными молекулами, различные воздействия с помощью электрического поля: анодное окисление, испарение с поверхности, химическое осаждение вещества, изменение зарядов, создание микровзрывов и ударных волн [1]. Из них одним из первых был реализован метод локального анодного окисления (ЛАО), который в настоящее время изучается наиболее интенсивно.