Наноиндустрия #3/2015
М.Шибата, Т.Обата, Х.Ой
Изготовление наноустройств на установках электронно-лучевой литографии высокого разрешения
Японская корпорация Crestec разработала систему электронно-лучевой литографии высокого разрешения CABL-UH. В статье рассматриваются концепция, характеристики и потенциальные области применения этой системы. DOI: 10.22184/1993-8578.2015.57.3.70.75